In this review, the features distin

In this review, the features distinguishing HiPIMS from other deposition methods will be addressed in detail along with how they influence the deposition conditions, such as the plasma parameters and the sputtered material, as well as the resulting thin film properties, such as microstructure, phase formation, and chemical composition. General trends will be established in conjunction to industrially relevant material systems to present this emerging technology to the interested reader.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในบทความนี้ คุณลักษณะที่แยกความแตกต่าง HiPIMS จากวิธีอื่น ๆ สะสมที่จะได้รับรายละเอียดพร้อมกับวิธีพวกเขา influence สะสมที่เงื่อนไข เช่นพารามิเตอร์พลาสมา และวัสดุ sputtered ตลอดจนผลลัพธ์ film บาง คุณสมบัติ ต่อโครงสร้างจุลภาค ก่อตัวระยะ และองค์ประกอบทางเคมี แนวโน้มทั่วไปจะสามารถก่อตั้งร่วมกับระบบเกี่ยวข้อง industrially วัสดุที่จะนำเสนอเทคโนโลยีเกิดใหม่นี้ให้ผู้อ่านสนใจ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการทบทวนนี้คุณสมบัติเด่น HiPIMS จากวิธีการของพยานอื่น ๆ จะได้รับการแก้ไขในรายละเอียดพร้อมกับวิธีการที่พวกเขามีอิทธิพลต่อภาวะการสะสมเช่นพารามิเตอร์พลาสมาและวัสดุ sputtered เป็นผลให้คุณสมบัติของฟิล์มบางเช่นจุลภาคเฟส องค์ประกอบการสร้างและสารเคมี แนวโน้มทั่วไปจะได้รับการจัดตั้งขึ้นร่วมกับระบบวัสดุอุตสาหกรรมที่เกี่ยวข้องที่จะนำเสนอเทคโนโลยีที่เกิดขึ้นใหม่นี้ไปยังผู้อ่านที่สนใจ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการตรวจสอบนี้ คุณสมบัติที่แตกต่างจากวิธีอื่น ๆ hipims สะสมจะถูกระบุไว้ในรายละเอียดพร้อมกับวิธีที่พวกเขาในfl uence สภาพสะสม , เช่นพลาสมาพารามิเตอร์และ sputtered วัสดุ ตลอดจนส่งผลให้บางจึง LM คุณสมบัติเช่นการเกิดเฟส โครงสร้างจุลภาค และองค์ประกอบทางเคมีแนวโน้มทั่วไปจะได้รับการก่อตั้งขึ้นร่วมกับระบบเชิงอุตสาหกรรมวัสดุที่เกี่ยวข้องในปัจจุบันนี้เทคโนโลยีใหม่ให้ผู้อ่านสนใจ