followed by sputter deposition and

followed by sputter deposition and patterning of the bottom
Aluminum electrode with a thickness of 0.3 m.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไปมาแล้ว โดย sputter สะสมและ patterning ของด้านล่างอิเล็กโทรดอลูมิเนียม มีความหนา 0.3 เมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตามมาด้วยการสะสมและการปะทุของเลียนแบบด้านล่างอิเล็กโทรลูมิเนียมที่มีความหนา 0.3 เมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตามด้วยละล่ำละลักคำให้การของพยานและการเลียนแบบของอลูมิเนียม ขั้วล่าง
ที่มีความหนา 0.3 เมตร