The SMT temperature of the film gro

The SMT temperature of the film grown at 350Wis
about 57
C (lower than bulk VO2) with a hysteresis width of about
7.2
C; while that of the film grown at 400 W is about 63
C with a
hysteresis width of 5
C and a slightly increased amplitude of SMT.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อุณหภูมิ SMT ของฟิล์มที่ปลูกในที่ 350Wisประมาณ 57 C (น้อยกว่าจำนวนมาก VO2) ด้วยความกว้างส่วนประมาณ7.2 C ในขณะที่ฟิล์มที่ปลูก 400 W ประมาณ 63 C ด้วยการความกว้างส่วน 5 C และคลื่นเพิ่มขึ้นเล็กน้อยของ SMT

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อุณหภูมิ SMT ของภาพยนตร์เรื่องนี้เติบโตที่ 350Wis
ประมาณ 57 C (ต่ำกว่า VO2 กลุ่ม) ที่มีความกว้างประมาณ hysteresis?
7.2 C; ในขณะที่ภาพยนตร์เรื่องนี้เติบโตที่ 400 W คือประมาณ 63 องศาเซลเซียสมี
ความกว้าง hysteresis 5 องศาเซลเซียสและความกว้างเพิ่มขึ้นเล็กน้อยของ SMT

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

SMT อุณหภูมิของฟิล์มที่ 350wis โตประมาณ 57 C ( ต่ำกว่ากลุ่มการใช้ออกซิเจน ) กับแบบกว้างเกี่ยวกับ7.2 C ; ส่วนของภาพยนตร์ที่ปลูกที่ 400 W ประมาณ 63 C กับแบบกว้าง 5 C และเพิ่มขึ้นเล็กน้อยขนาดของ SMT