where n is the electron concentrati

where n is the electron concentration in the CB, p is the hole concentration in the VB,
and Vde and Vdh are the drift velocities of electrons and holes in response to an applied
electric field Thus,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยที่ n คือ ความเข้มข้นของอิเล็กตรอนใน CB, p คือ ความเข้มข้นของหลุมใน VBและ Vde และ Vdh ตะกอนดริฟท์ของอิเล็กตรอนและหลุมในการตอบสนองการใช้สนามไฟฟ้าดังนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยที่ n คือความเข้มข้นของอิเล็กตรอนใน CB, P คือความเข้มข้นหลุมใน VB,
และ Vde และ Vdh มีความเร็วดริฟท์ของอิเล็กตรอนและหลุมในการตอบสนองการใช้
สนามไฟฟ้าดังนั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยที่ n คือความเข้มข้นของอิเล็กตรอนใน CB , P คือหลุมที่พบใน VB ,
และ VDE vdh จะล่องลอยและความเร็วของอิเล็กตรอนและหลุมในการตอบสนองการประยุกต์
สนามไฟฟ้าจึง