Overall, four PS concentrations (0.

Overall, four PS concentrations (0.05, 0.1, 0.2, and 0.4% (w/v)) and three spin coating
speeds (4000, 6000, and 8000 rpm) amounted to 12 types of PS
film-coated chips. On each chip, five plasma etching durations (0,
30, 60, 90, and 120 s) and two types of buffers (NaOAc, pH 4.5 and
PBS, pH 7.2) for antigen immobilization were also evaluated. Thus,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยรวม ความเข้มข้นของ PS 4 (0.05, 0.1, 0.2 และ 0.4% (w/v)) และสามหมุนเคลือบความเร็ว (4000, 6000 และ 8000 รอบต่อนาที) มี 12 ชนิด PSชิ film เคลือบ ในแต่ละชิ พลา five ระยะเวลา (0 การแกะสลัก30, 60, 90 และ 120 s) และชนิดที่สองของบัฟเฟอร์ (NaOAc, pH 4.5 และPBS, pH 7.2) สำหรับตรวจหา ตรึงโปก็ยังประเมิน ดังนั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยรวม, ความเข้มข้นสี่ PS (0.05, 0.1, 0.2 และ 0.4% (w / v)) และสามเคลือบหมุน
ความเร็ว (4000, 6000 และ 8000 รอบต่อนาที) มีจำนวน 12 ชนิดของ PS
ไฟชิป LM-เคลือบ บนชิปแต่ละสายได้ระยะเวลาการแกะสลักพลาสม่า (0,
30, 60, 90, และ 120 s) และทั้งสองประเภทของบัฟเฟอร์ (NaOAc ค่า pH 4.5 และ
พีบีเอสพีเอช 7.2) สำหรับการตรึงแอนติเจนยังได้รับการประเมิน ดังนั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยรวมแล้ว สี่ PS ความเข้มข้น ( 0.05 , 0.1 , 0.2 และ 0.4 % ( w / v ) และความเร็วในการหมุนเคลือบ 3
( 4000 , 6000 , 8000 rpm ) มี 12 ชนิดของ PS
จึง LM เคลือบชิป ในแต่ละชิปจึงได้พลาสมาแกะสลักระยะเวลา ( 0
30 , 60 , 90 และ 120 S ) และสองชนิดของบัฟเฟอร์ ( naoac pH 4.5 และ
PBS , pH 7.2 ) สำหรับ Antigen การตรึงยังประเมิน ดังนั้น