Titanium nitride (TiN) thin films a

Titanium nitride (TiN) thin films as a hard coating were grown on a Si (100) as a substrate by reactive pulsed laser deposition
(reactive PLD). To investigate the effect of substrate temperature and the pressure of nitrogen (N2) gas on the structural and
mechanical properties of the as-grown TiN thin films, we varied the substrate temperature and working pressure during the
deposition process. X-ray diffraction (XRD) measurements showed that the as-grown TiN thin films at 10−3 torr (13 × 10−2
Pa)
and 450 o
C grew preferentially in the direction of the (111) plane. Nano-indentation measurements showed that the hardness
and elastic modulus value of the as-grown TiN thin films at 10−3 torr (13 × 10−2
Pa) and 450 o
C were higher than with other
deposition conditions. In addition, the (111) texture coefficients obviously increased for the as-grown TiN thin films at 10−3
torr
(13 × 10−2
Pa) and 450 o
C, as compared with as-grown TiN thin films with other deposition conditions; generally, an increase
of the (111) texture coefficient resulted in an increase of the hardness. A field emission scanning electron microscope (FESEM)
study of microstructural measurements showed that a dense columnar structure was observed with a high (111) texture
coefficient while a granular structure was observed at the other deposition condition. A correlation of the reactive pulsed laser
deposition parameters with the structural and mechanical properties of as-grown TiN thin films is discussed in this paper.
Key words: Reactive pulsed laser deposition, Titanium nitride, Hardness, Elastic modulus, nano-indentation.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไทเทเนียม nitride (TiN) ฟิล์มบางเป็นเคลือบแข็งถูกปลูกในศรี (100) เป็นพื้นผิวแบบ โดยเลเซอร์พัลปฏิกิริยาสะสม
(reactive PLD) การตรวจสอบผลของพื้นผิวอุณหภูมิและความดันของก๊าซไนโตรเจน (N2) บนโครงสร้าง และ
คุณสมบัติทางกลของการโตเป็นดีบุกบางฟิล์ม เราหลากหลายพื้นผิวอุณหภูมิและความดันทำงานระหว่าง
กระบวนการสะสม วัดการเลี้ยวเบนการเอ็กซ์เรย์ (XRD) พบว่าปลูกเป็นดีบุกบางภาพยนตร์ที่ธอร์ 10−3 (13 × 10−2
Pa)
และ 450 o
C โน้ตเติบโตในทิศทางของระนาบ (111) นาโนเยื้องวัดพบว่าความแข็ง
และโมดูลัสยืดหยุ่นค่ากระป๋องปลูกเป็นบางฟิล์มที่ธอร์ 10−3 (13 × 10−2
Pa) และ 450 o
C ได้มากกว่ากัน
สภาพสะสม นอกจากนี้ สัมประสิทธิ์ (111) เนื้อชัดขึ้นสำหรับปลูกเป็นดีบุกบางภาพยนตร์ที่ 10−3
ธอร์
(13 × 10−2
Pa) และ 450 o
C ตกโตเป็นดีบุกบางฟิล์มด้วยเงื่อนไขอื่น ๆ สะสม ทั่วไป การเพิ่ม
ของสัมประสิทธิ์ (111) เนื้อผลในการเพิ่มความแข็ง กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนการสแกนมลพิษฟิลด์ (FESEM)
การศึกษาวัด microstructural พบว่า โครงสร้างการเรียงเป็นแนวตั้งหนาแน่นที่สังเกต ด้วยเนื้อสูง (111)
สัมประสิทธิ์ในขณะที่โครงสร้างแบบ granular ถูกสังเกตที่สะสมเงื่อนไขอื่น ๆ ความสัมพันธ์ของปฏิกิริยาพัลเลเซอร์
สะสมพารามิเตอร์ มีคุณสมบัติโครงสร้าง และเครื่องจักรกลของโตเป็นดีบุกบางฟิล์มกล่าวถึงในเอกสารนี้
คำสำคัญ: เลเซอร์พัลปฏิกิริยาสะสม ไทเทเนียม nitride ความแข็ง โมดูลัสยืดหยุ่น นาโนเยื้อง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไททาเนียมไนไตรด์ (TiN) ฟิล์มบางที่เคลือบแข็งถูกปลูกในศรี (100) เป็นสารตั้งต้นโดยปฏิกิริยาการสะสมเลเซอร์ชีพจร
(ปฏิกิริยา PLD) เพื่อศึกษาผลของอุณหภูมิและความดันที่พื้นผิวของไนโตรเจน (N2) ก๊าซในโครงสร้างและ
คุณสมบัติทางกลของการปลูกฟิล์มบางดีบุกที่เราแตกต่างกันที่อุณหภูมิพื้นผิวและความดันการทำงานในระหว่าง
ขั้นตอนการสะสม x-เรย์เลนส์ (XRD) วัดแสดงให้เห็นว่าในขณะที่ปลูกฟิล์มบางดีบุกที่ 10-3 Torr (13 × 10-2
ป่า)
และ 450 o
C เติบโตพิเศษในทิศทางของ (111) เครื่องบิน วัดนาโนเยื้องแสดงให้เห็นว่ามีความแข็ง
และค่ามอดูลัสยืดหยุ่นเป็นปลูกฟิล์มบางดีบุกที่ 10-3 Torr (13 × 10-2
ป่า) และ 450 o
C มีค่าสูงกว่าที่อื่น ๆ
เงื่อนไขการสะสม นอกจากนี้ (111) สัมประสิทธิ์เนื้อเพิ่มขึ้นอย่างเห็นได้ชัดสำหรับการปลูกฟิล์มบางดีบุกที่ 10-3
Torr
(13 × 10-2
ป่า) และ 450 o
C เทียบกับที่ปลูกฟิล์มบางดีบุกมีเงื่อนไขการสะสมอื่น ๆ ; โดยทั่วไปการเพิ่มขึ้น
ของ (111) ค่าสัมประสิทธิ์เนื้อผลในการเพิ่มขึ้นของความแข็ง ด้านการปล่อยอิเล็กตรอนสแกนกล้องจุลทรรศน์ (FESEM)
การศึกษาของวัดจุลภาคพบว่าโครงสร้างเสาหนาแน่นเป็นที่สังเกตสูง (111) เนื้อ
ในขณะที่ค่าสัมประสิทธิ์โครงสร้างเม็ดเป็นข้อสังเกตที่สภาวะการสะสมอื่น ๆ ความสัมพันธ์ของปฏิกิริยาชีพจรเลเซอร์
พารามิเตอร์สะสมที่มีคุณสมบัติโครงสร้างและเครื่องจักรกลเป็นปลูกฟิล์มบางดีบุกจะกล่าวถึงในบทความนี้
คำสำคัญ: ปฏิกิริยาสะสมเลเซอร์พัล, ไททาเนียมไนไตรด์, ความแข็ง, มอดูลัสยืดหยุ่น, นาโนเยื้อง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไทเทเนียมไนไตรด์ ( ดีบุก ) เป็นฟิล์มบางเคลือบแข็งที่ปลูกในจังหวัด ( 100 ) เป็นสารตั้งต้น โดยรีพัล
สะสมเลเซอร์ ( Reactive PLD ) เพื่อศึกษาผลของอุณหภูมิพื้นผิว และความดันของแก๊สไนโตรเจน ( N2 ) โครงสร้างและ
สมบัติเชิงกลของฟิล์มบางดีบุกเป็นผู้ใหญ่เราหลากหลายพื้นผิวอุณหภูมิและความดันในระหว่าง
กระบวนการเคลือบเครื่อง X-ray diffraction ( XRD ) พบว่า เป็นวัดที่ปลูกฟิล์มบางดีบุก 10 − 3 ทอร์ ( 13 × 10 − 2
PA )
o
preferentially 450 C ขยายตัวในทิศทางของ ( 111 ) เครื่องบิน วัดเยื้อง นาโน พบว่า ค่าความแข็ง และค่าโมดูลัสแบบ
ที่ปลูกฟิล์มบางดีบุก 10 − 3 ทอร์ ( 13 × 10 − 2
o
PA ) และ 450 องศาเซลเซียส สูงกว่า สภาพสะสมอื่น ๆ

นอกจากนี้( 111 ) โดยเนื้อชัดเพิ่มขึ้นสำหรับเป็นปลูกฟิล์มบางดีบุก 10 − 3

( ทอร์ 13 × 10 − 2
o
PA ) และ 450 องศาเซลเซียส เมื่อเทียบกับการปลูกฟิล์มบางดีบุกสภาพสะสมอื่น ๆ โดยทั่วไปเพิ่มขึ้น
ของ ( 111 ) โดยเนื้อผลการเพิ่มขึ้นของความแข็ง เขตข้อมูลจากกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ( fesem )
การศึกษาการวัดโครงสร้างจุลภาคพบว่าโครงสร้างมีหนาแน่นพบมีสูง ( 111 ) เนื้อ
ในขณะที่สัมประสิทธิ์โครงสร้างละเอียดพบว่าในภาวะการสะสมอื่น ๆ ความสัมพันธ์ของพารามิเตอร์การรีพัลซิ่งเลเซอร์
กับโครงสร้างและสมบัติเชิงกลของฟิล์มบางดีบุกเป็นโตจะกล่าวถึงในบทความนี้ .
คำสำคัญเลเซอร์สีพัลก ไทเทเนียมไนไตรด์ , ความแข็ง , โมดูลัสยืดหยุ่นนาโนเยื้อง .