Similar to KOH, the TMAH etch rate

Similar to KOH, the TMAH etch rate varies exponentially with temperature. Table 4 relates silicon orientation-dependent etch rates of TMAH to percent composition, temperature, and orientation. Table 4 is taken directly from [2].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เช่นเดียวกับเกาะ TMAH การกัดอัตราแตกต่างกันไปเป็นทวีคูณเมื่ออุณหภูมิ ตาราง 4 ซิลิคอนที่เกี่ยวข้องขึ้นอยู่กับการวางแนวกัดพิเศษของ TMAH องค์ประกอบร้อยละ อุณหภูมิ และแนวการ ตาราง 4 ถูกนำมาโดยตรงจาก [2]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

คล้ายกับเกาะที่อัตราการกัด TMAH แตกต่างกันไปชี้แจงกับอุณหภูมิ ตารางที่ 4 ที่เกี่ยวข้องกับซิลิกอนกัดอัตราการวางแนวทางขึ้นอยู่กับองค์ประกอบ TMAH ร้อยละอุณหภูมิและการวางแนว ตารางที่ 4 จะนำมาโดยตรงจาก [2]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

คล้ายคลึงกับเกาะ , tmah กัดอัตราแตกต่างกันไปชี้แจงกับอุณหภูมิ ตารางที่ 4 นั้น ขึ้นอยู่กับทิศทางอัตรา tmah กัดซิลิคอนองค์ประกอบ อุณหภูมิ เปอร์เซ็นต์ และปฐมนิเทศ ตารางที่ 4 ถ่ายโดยตรงจาก [ 2 ]