ZrN films were deposited by cathodi

ZrN films were deposited by cathodic vacuum arc (CVA) technique in N2 atmosphere at low temperature with different substrate bias.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพยนตร์ ZrN ถูกฝากไว้ โดยหนึ่งดูดโค้ง (CVA) เทคนิคใน N2 ที่อุณหภูมิต่ำมีความโน้มเอียงของพื้นผิวที่แตกต่างกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์ ZRN ถูกฝากสูญญากาศโค้ง (CVA) เทคนิค cathodic ในชั้นบรรยากาศ N2 ที่อุณหภูมิต่ำที่มีอคติพื้นผิวที่แตกต่างกัน