Bare and modified silica NPs were synthesized via three different procedures. In all experiments the concentration of
TEOS as the precursor of NPs synthesis, the molar ratio of H2O/TEOS and ammonia concentration were kept constant in
0.25 mol/L, 38 and 0.5 mol/L, respectively. In order to synthesize the bare and PEG grafted silica NPs, similar procedures,
described in our previous published work [38], were applied. Brief explanations are given in the following paragraph.
Bare silica NPs were synthesized by one-pot/one-step sol-gel method. A solution containing 0.25 mol/L TEOS in 200 ml
EtOH was prepared by vigorously stirring at 65 C under nitrogen atmosphere. After 5 min, NH4OH and H2O were added.
The final solution was centrifuged at 12,000 rpm for 10 min and then rinsed by DI water and ethanol for several times to
ensure the removal of unreacted materials. The particles were dried at 75 C for 24 h to obtain the final NPs.
In order to synthesize PEG-g-silica NPs, in which PEG was used as the silane molecule modifier, the PEG/TEOS molar ratio
of 4/1 was utilized. In this regard, PEG was added dropwise into the reaction mixture, after the primary particles appeared in
the reaction mixture (about 5 min after adding NH4OH and H2O). Afterwards, the mixture was stirred vigorously for about
1 h and then separated, washed and dried according to the previously described procedure.
Finally, in order to synthesize PEG/vinyl-g-silica NPs, schematically shown in Fig. 1, the molar ratio of VTMS to TEOS was
kept constant at 1/9 according to Effati and Pourabbas [42] and Marini et al. [43] reports on one-pot synthesis method. In this
regard, VTMS was added dropwise to the reaction mixture after the solution became transparent due to the formation of
primary particles, which are indeed the reaction products of TEOS. After 5 min, PEG was added to the reaction vessel and
mixing continued for 60 min. Separation, washing and drying of the final product were carried out following a similar
pattern described previously.
Bare and modified silica NPs were synthesized via three different procedures. In all experiments the concentration ofTEOS as the precursor of NPs synthesis, the molar ratio of H2O/TEOS and ammonia concentration were kept constant in0.25 mol/L, 38 and 0.5 mol/L, respectively. In order to synthesize the bare and PEG grafted silica NPs, similar procedures,described in our previous published work [38], were applied. Brief explanations are given in the following paragraph.Bare silica NPs were synthesized by one-pot/one-step sol-gel method. A solution containing 0.25 mol/L TEOS in 200 mlEtOH was prepared by vigorously stirring at 65 C under nitrogen atmosphere. After 5 min, NH4OH and H2O were added.The final solution was centrifuged at 12,000 rpm for 10 min and then rinsed by DI water and ethanol for several times toensure the removal of unreacted materials. The particles were dried at 75 C for 24 h to obtain the final NPs.In order to synthesize PEG-g-silica NPs, in which PEG was used as the silane molecule modifier, the PEG/TEOS molar ratioof 4/1 was utilized. In this regard, PEG was added dropwise into the reaction mixture, after the primary particles appeared inthe reaction mixture (about 5 min after adding NH4OH and H2O). Afterwards, the mixture was stirred vigorously for about1 h and then separated, washed and dried according to the previously described procedure.Finally, in order to synthesize PEG/vinyl-g-silica NPs, schematically shown in Fig. 1, the molar ratio of VTMS to TEOS waskept constant at 1/9 according to Effati and Pourabbas [42] and Marini et al. [43] reports on one-pot synthesis method. In thisregard, VTMS was added dropwise to the reaction mixture after the solution became transparent due to the formation ofprimary particles, which are indeed the reaction products of TEOS. After 5 min, PEG was added to the reaction vessel andmixing continued for 60 min. Separation, washing and drying of the final product were carried out following a similarpattern described previously.
การแปล กรุณารอสักครู่..
เปลือยและการแก้ไข NPS ซิลิกาสังเคราะห์ผ่านสามขั้นตอนที่แตกต่างกัน ในการทดลองทุกความเข้มข้นของ
TEOS เป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์ NPS ที่อัตราส่วนของ H2O / TEOS และความเข้มข้นของแอมโมเนียจะถูกเก็บไว้อย่างต่อเนื่องใน
0.25 mol / L, 38 และ 0.5 โมล / ลิตรตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปลือยและ PEG NPS ทาบซิลิกาวิธีการที่คล้ายกัน
อธิบายไว้ในผลงานตีพิมพ์ของเราก่อนหน้านี้ [38], ถูกนำไปใช้ คำอธิบายสั้น ๆ จะได้รับในวรรคต่อไปนี้.
กรมอุทยานฯ ซิลิกาเปลือยถูกสังเคราะห์โดย / ขั้นตอนเดียววิธีโซลเจลหนึ่งหม้อ วิธีการแก้ปัญหาที่มี 0.25 mol / L TEOS ใน 200 มล.
EtOH ถูกจัดทำขึ้นโดยแรงกวนที่ 65 C ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที, NH4OH และ H2O ถูกเพิ่ม.
การแก้ปัญหาสุดท้ายก็หมุนเหวี่ยงที่ 12,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 10 นาทีแล้วล้างออกด้วยน้ำ DI และเอทานอลหลาย ๆ ครั้งเพื่อ
ให้แน่ใจว่าการกำจัดของวัสดุ unreacted อนุภาคแห้งที่ 75 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 24 ชั่วโมงเพื่อให้ได้ NPS สุดท้าย.
เพื่อที่จะสังเคราะห์ NPS PEG-G-ซิลิกาซึ่งใน PEG ถูกใช้เป็นตัวปรับแต่งไซเลนโมเลกุลที่อัตราส่วน PEG / TEOS
ของ 4/1 ถูกใช้ . ในเรื่องนี้ PEG ถูกบันทึกลงในส่วนผสม dropwise ปฏิกิริยาหลังจากที่อนุภาคหลักที่ปรากฏใน
ผสมปฏิกิริยา (ประมาณ 5 นาทีหลังจากที่เพิ่ม NH4OH และ H2O) หลังจากนั้นส่วนผสมที่ถูกกวนอย่างจริงจังประมาณ
1 ชั่วโมงจากนั้นแยกออกจากกันล้างและแห้งไปตามขั้นตอนที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้.
สุดท้ายเพื่อสังเคราะห์ PEG / NPS ไวนิล-G-ซิลิกาแสดงแผนผังในรูป 1, อัตราส่วนของ VTMS เพื่อ TEOS ถูก
คงที่ 1/9 ตาม Effati และ Pourabbas [42] และ Marini, et al [43] รายงานเกี่ยวกับวิธีการสังเคราะห์หนึ่งหม้อ ในการนี้
นับถือ VTMS ถูกบันทึก dropwise เพื่อผสมปฏิกิริยาหลังจากแก้ปัญหากลายเป็นโปร่งใสเนื่องจากการสะสมของ
อนุภาคหลักซึ่งแน่นอนผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาของ TEOS หลังจาก 5 นาที, PEG ถูกบันทึกอยู่ในเรือปฏิกิริยาและ
ผสมอย่างต่อเนื่องเป็นเวลา 60 นาที แยกซักผ้าและอบแห้งของผลิตภัณฑ์สุดท้ายได้ดำเนินการดังต่อไปนี้ที่คล้ายกัน
รูปแบบที่อธิบายไว้ก่อนหน้า
การแปล กรุณารอสักครู่..