When this sputtering source is used

When this sputtering source is used in the presence of a reactive gas to deposit a compound film, further advantages ensue: 1) The rate of deposition can easily be controlled to allow balanced processes to be maintained. 2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เมื่อแหล่งนี้ sputtering ใช้ในต่อหน้าของก๊าซปฏิกิริยาฝากฟิล์มผสม เพิ่มเติมข้อดีใส่ใจ: 1) สามารถคุมอัตราการสะสมให้สมดุลกระบวนการรักษาได้ 2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เมื่อเป็นเช่นนี้ที่มาสปัตเตอร์ที่ใช้ในการปรากฏตัวของก๊าซปฏิกิริยาที่จะฝากภาพยนตร์เรื่องสารประโยชน์เพิ่มเติมตามมาคือ 1) อัตราการสะสมสามารถควบคุมได้ง่ายเพื่อให้กระบวนการสมดุลในการได้รับการรักษา 2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เมื่อแหล่งที่มาทำงานนี้จะใช้ในการแสดงตนของปฏิกิริยาก๊าซเพื่อฝากประกอบภาพยนตร์ ข้อดีเพิ่มเติมตามมา : 1 ) อัตราการสะสมได้อย่างง่ายดายสามารถควบคุมเพื่อให้กระบวนการสมดุลจะถูกเก็บรักษาไว้ ( 2 )