ZnO thin films are widely used as a

ZnO thin films are widely used as antireflection layer in solar cells and can be grown by various techniques implemented at various
temperatures. In this contribution, we present the morphological and optical properties of ZnO thin films prepared by spray pyrolysis
on glass substrates at various growth temperatures from 350 to 550 °C. The surface morphology of the films, analysed by scanning
electron microscopy SEM, is modified with substrate temperature. Optical characterizations of ZnO films as a function of temperature
were carried out by transmittance and photoluminescence (PL) measurements. Main optical properties are as follow: All the films are
highly transparent in the visible region of the electromagnetic spectrum. The average transmission in the visible range (400–800 nm)
was greater than 80%. The band gap of ZnO films increases with increasing substrate temperatures attributed to the increase of the
grain size of thesample.PL spectrum of ZnO films can be divided into the UV emission and the visible broadband emission attributed
to the near band edge emission (NBE) and to the deep level emissions (DLE), respectively. The biggest ratio of UV emission on visible
emission of the PL intensity is observed for the ZnO thin film deposited at 550 °C by the spray pyrolysis technique. Therefore, we
suggest that this original result indicate the most suitable growing conditions for obtaining high quality sprayed ZnO thin films with
higher luminescence performances.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์มบางของ ZnO ใช้เป็นชั้น antireflection ในเซลล์แสงอาทิตย์ และสามารถเติบโต โดยเทคนิคต่าง ๆ การใช้งานที่หลากหลายอุณหภูมิ ในส่วนนี้ เรานำเสนอคุณสมบัติสัณฐาน และแสงของฟิล์มบาง ZnO โดยสเปรย์ไพโรไลซิบนพื้นผิวแก้วที่ต่าง ๆ เจริญเติบโตอุณหภูมิจาก 350 ที่ 550 องศาเซลเซียส สัณฐานวิทยาที่พื้นผิวของฟิล์ม analysed โดยการสแกนอิเล็กตรอน microscopy SEM มีการปรับเปลี่ยน มีอุณหภูมิพื้นผิว Characterizations แสงของฟิล์ม ZnO เป็นฟังก์ชันของอุณหภูมิได้ดำเนินการ โดย transmittance และ photoluminescence (PL) วัด คุณสมบัติแสงหลักมีดังต่อไปนี้: มีภาพยนตร์ทั้งหมดสูงโปร่งใสในภูมิภาคเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้า การส่งผ่านค่าเฉลี่ยในระยะที่มองเห็น (400-800 nm)มีมากกว่า 80% ช่องว่างวงของ ZnO ภาพยนตร์เพิ่มขึ้น ด้วยการเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวที่เกิดจากการเพิ่มขึ้นของการเมล็ดขนาดของสเปกตรัม thesample.PL ของฟิล์ม ZnO สามารถแบ่งมลพิษ UV และมลพิษบรอดแบนด์ที่เห็นเกิดจากใกล้วงขอบมลพิษ (NBE) และปล่อยระดับลึก (DLE), ตามลำดับ อัตราส่วนที่ใหญ่ที่สุดของมลพิษ UV บนมองเห็นมลพิษของความเข้มของ PL เป็นสังเกตสำหรับฟิล์มบาง ZnO ฝากที่ 550 ° C โดยเทคนิคสเปรย์ไพโรไลซิ ดังนั้น เราแนะนำว่า ผลลัพธ์นี้เดิมระบุเงื่อนไขเติบโตเหมาะสมที่สุดสำหรับการได้รับคุณภาพพ่นฟิล์มบาง ZnO ด้วยสูง luminescence แสดง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิงค์ออกไซด์ฟิล์มบางที่มีการใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นชั้นสะท้อนในเซลล์แสงอาทิตย์และสามารถปลูกได้โดยใช้เทคนิคต่างๆในการดำเนินการต่างๆที่อุณหภูมิ
ในผลงานนี้เรานำเสนอคุณสมบัติทางสัณฐานวิทยาและแสงของ ZnO
ฟิล์มบางที่จัดทำโดยไพโรไลซิสเปรย์บนพื้นผิวแก้วที่อุณหภูมิต่างๆเจริญเติบโต350-550 องศาเซลเซียส สัณฐานพื้นผิวของภาพยนตร์วิเคราะห์โดยการสแกนอิเล็กตรอนกล้องจุลทรรศน์ SEM, มีการแก้ไขที่มีอุณหภูมิพื้นผิว
สมบัติทางแสงของฟิล์มซิงค์ออกไซด์เป็นหน้าที่ของอุณหภูมิได้ดำเนินการโดยการส่งผ่านและ photoluminescence (PL) วัด
คุณสมบัติทางแสงหลักมีดังนี้ภาพยนตร์ทุกเรื่องที่มีสูงโปร่งใสในภูมิภาคที่มองเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้า
ส่งเฉลี่ยในช่วงที่มองเห็นได้ (400-800 นาโนเมตร)
สูงกว่า 80% ช่องว่างของวงดนตรีของฟิล์มซิงค์ออกไซด์เพิ่มขึ้นกับการเพิ่มขึ้นของอุณหภูมิพื้นผิวประกอบกับการเพิ่มขึ้นของขนาดเม็ดของสเปกตรัม thesample.PL ของฟิล์มซิงค์ออกไซด์สามารถแบ่งออกเป็นการปล่อยรังสียูวีและการปล่อยบรอดแบนด์ที่มองเห็นมาประกอบกับขอบวงใกล้ปล่อยก๊าซเรือนกระจก(NBE) และ ที่จะปล่อยระดับลึก (DLE) ตามลำดับ อัตราส่วนที่ใหญ่ที่สุดของการปล่อยรังสียูวีที่มองเห็นได้ในการปล่อยความเข้ม PL เป็นที่สังเกตสำหรับฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ฝากที่ 550 องศาเซลเซียสโดยใช้เทคนิคไพโรไลซิสเปรย์ ดังนั้นเราจึงชี้ให้เห็นว่าผลเดิมนี้บ่งบอกถึงสภาพการเจริญเติบโตที่เหมาะสมที่สุดสำหรับการได้รับการฉีดพ่นที่มีคุณภาพสูง ZnO ฟิล์มบางที่มีการแสดงแสงเรืองที่สูงขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลาย เช่น antireflection ในชั้นเซลล์แสงอาทิตย์ และสามารถปลูกโดยเทคนิคต่างๆที่ใช้ในอุณหภูมิต่างๆ

ในส่วนนี้เรานำเสนอลักษณะทางสัณฐานวิทยาและสมบัติทางแสงของฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ที่เตรียมโดยสเปรย์ไพโรไลซีส
บนพื้นผิวแก้วที่อุณหภูมิการเจริญเติบโตต่างๆจาก 350 550 องศา ลักษณะพื้นผิวของฟิล์ม วิเคราะห์โดยการสแกน
SEM จุลทรรศน์อิเล็กตรอน จะแก้ไขได้ด้วยอุณหภูมิพื้นผิว การศึกษาคุณสมบัติทางแสงของฟิล์มซิงค์ออกไซด์ที่เป็นฟังก์ชันของอุณหภูมิ
ทดลองโดยการส่งผ่านและโฟโตลูมิเนสเซนซ์ ( PL ) วัด คุณสมบัติของแสงหลักเป็นดังนี้ ภาพยนตร์ทั้งหมดมี
โปร่งใสในภูมิภาคที่มองเห็นของสเปกตรัมแม่เหล็กไฟฟ้า ส่งโดยเฉลี่ยในช่วงที่มองเห็นได้ ( 400 - 800 nm )