Displacement deposition of Pt parti

Displacement deposition of Pt particles in 1.0 mM H2PtCl6 and 15 mM HF aqueous solution for 120 s was employed for the electroless Pt deposition on the n-Silicon wafers

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การสะสมแทนที่ของอนุภาคใน Pt 1.0 มิลลิ H2PtCl6 และ 15 มิลลิ HF สารละลาย 120 s ถูกจ้างสำหรับการสะสม Pt ไฟฟ้าบนเวเฟอร์ n-ซิลิคอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมของอนุภาคของ Pt ใน๑.๐ mM H2PtCl6 และการแก้ปัญหาน้ำที่15มม. HF สำหรับ๑๒๐ s ได้รับการจ้างงานสำหรับการสะสมของคลื่นไฟฟ้าที่ไม่มีการใช้งาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเปลี่ยนเม็ด Pt 120s ใน 1.0mm h2ptcl6 และ 15mm HF โซลูชั่น