The oxygen composition in sputtered

The oxygen composition in sputtered-film from pure N2 plasma that caused by an unavoidable residual agent (O2) in the vacuum system

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

องค์ประกอบของออกซิเจนใน sputtered ฟิล์มจากพลาสม่า N2 บริสุทธิ์ที่เกิดขึ้น โดยการหลีกเลี่ยงไม่เหลือแทน (O2) ในระบบสูญญากาศ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

องค์ประกอบออกซิเจนในภาพยนตร์ sputtered จากพลาสม่าบริสุทธิ์ N2 ที่เกิดจากตัวแทนที่เหลือหลีกเลี่ยงไม่ได้ (O2) ในระบบสูญญากาศ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ออกซิเจนเป็นองค์ประกอบในฟิล์มเคลือบอนุภาคบริสุทธิ์ N2 พลาสมาที่เกิดจากตัวแทนที่เหลือย่อม ( O2 ) ในระบบสูญญากาศ