The mixed solutions (150 and 200 mL

The mixed solutions (150 and 200 mL) were used for spin coating on clean silicon
substrate (1.31.3 cm) and quartz substrate (2.02.0 cm) at
RT, respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โซลูชันแบบผสม (150 และ 200 มล.) ใช้สำหรับหมุนเคลือบบนซิลิคอนสะอาดพื้นผิว (1.3 1.3 cm) และพื้นผิวของควอทซ์ (2.0 2.0 เซนติเมตร) ที่RT ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การแก้ผสม ​​(150 และ 200 มิลลิลิตร) ถูกนำมาใช้สำหรับเคลือบปั่นสะอาดซิลิกอน
สารตั้งต้น (1.3? 1.3 ซม.) และผลึกสารตั้งต้น (2.0? 2.0 เซนติเมตร)
RT ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โซลูชั่นผสม ( 150 และ 200 มล. ) ใช้สำหรับการหมุนเคลือบซิลิคอน สะอาดพื้นผิว ( 1.31.3 ซม. ) และผลึกฐานรอง ( 2.02.0 ซม. )RT ตามลำดับ