Preliminary results referring to th

Preliminary results referring to the synt
hesis of tungsten oxide thin films with
possible utilization as photoanode for water
splitting are presented. WO
3
thin films were deposited on optical glass s
ubstrate by dip coating method, using aqueous
solutions of peroxotungstic acid (PTA). The dipping solution was prepared from tungsten oxide hydrate (WO
3
⋅
xH
2
O) and
hydrogen peroxide in well controlled conditions. After co
ating, the sol-gel derived films were heated at 250-550
0
C to
complete the dehydration of the tungsten
oxide precursors. Different characterisati
on techniques were used to evaluate the
cristalline structure (X Ray Diffraction-XRD), the morphology
and particle size (Scanning Electron Microscopy-SEM), the
behavior during the heating procees (Thermal Analysis- TGA-
SDTA) and optical and structural properties (UV-Vis and FTIR
Spectroscopy) of tungst
en oxide precursors and WO
3
films.A correlation between pr
eparation conditions and the
characteristics of tungst
en oxide precursors and WO
3
films was established

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ผลการศึกษาเบื้องต้นหมายถึง SYNT
hesis
ของทังสเตนออกไซด์ฟิล์มบางที่มีการใช้ประโยชน์ที่เป็นไปได้photoanode
น้ำแยกจะถูกนำเสนอ WO
3
ฟิล์มบางถูกวางลงบนแก้วแสง s
ubstrate
โดยวิธีการเคลือบจุ่มน้ำโดยใช้โซลูชั่นของกรดperoxotungstic (PTA) วิธีการแก้ปัญหาจุ่มที่เตรียมจากไฮเดรตทังสเตนออกไซด์ (WO
3
⋅
XH
2
O)
และไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ในสภาวะที่ควบคุมได้ดี หลังจากร่วม
ating ที่โซลเจลภาพยนตร์มาถูกความร้อนที่ 250-550
0
C เพื่อดำเนินการคายน้ำของทังสเตนสารตั้งต้นออกไซด์ characterisati ที่แตกต่างกันเกี่ยวกับเทคนิคการถูกนำมาใช้ในการประเมินโครงสร้างcristalline (X-Ray เลนส์ XRD) สัณฐานและขนาดอนุภาค(กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน-SEM) ที่พฤติกรรมในช่วงร้อนprocees (การวิเคราะห์ความร้อน TGA- SDTA) และแสงและโครงสร้าง คุณสมบัติ (UV-Vis และ FTIR Spectroscopy) ของ tungst en ออกไซด์และสารตั้งต้น WO 3 films.A ความสัมพันธ์ระหว่างราคาเงื่อนไขeparation และลักษณะของtungst en ออกไซด์และสารตั้งต้น WO 3 ภาพยนตร์ก่อตั้งขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ผลเบื้องต้นหมายถึงการ synt
hesis ของทังสเตนออกไซด์แบบฟิล์มบางด้วย

เป็นไปได้ใช้เป็น photoanode น้ำแบ่ง ได้แก่ wo
3
ถูกฝากไว้บนฟิล์มบางแสงแก้วด้วย
ubstrate โดยวิธีจุ่มเคลือบ ใช้โซลูชั่นของสารละลาย
peroxotungstic acid ( PTA ) จุ่มในสารละลายที่เตรียมจากทังสเตนออกไซด์ไฮเดรต ( wo
3

⋅ XH
2
o
)ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ในเงื่อนไขที่ควบคุมได้ดี หลังจาก Co
ของเรา , โซล - เจลฟิล์มที่อุณหภูมิ 250-550
0
C

เสร็จร่างกายของทังสเตนออกไซด์สาร
.
characterisati แตกต่างกันในเทคนิคที่ใช้เพื่อประเมินโครงสร้าง cristalline
( x-ray diffraction XRD ) , รูปร่างและขนาดของอนุภาค ( สแกน

SEM จุลทรรศน์อิเล็กตรอน )พฤติกรรมในระหว่างความร้อน ( Thermal procees การวิเคราะห์ - : -
sdta ) และสมบัติทางแสงและโครงสร้าง ( UV VIS และ FTIR spectroscopy tungst

) และออกไซด์สารตั้งต้นและ wo
3
ภาพยนตร์ ความสัมพันธ์ระหว่าง PR
eparation เงื่อนไขและลักษณะของ tungst

และออกไซด์สารตั้งต้นและ wo
3
ฟิล์มตั้งขึ้น