The eCMWP fitting for reflection (2

The eCMWP fitting for reflection (220) of the Cu–3 at.% Ag sample in cryorolled
state, and after annealing for 20 min at 623 K. The symbols and the solid lines
represent the measured data and the fitted curves, respectively. The diffraction
peak in the annealed condition is a sum of two reflections related to Regions 1 and 2
having different average lattice parameters (for details see the text). In this figure
the integrated intensity (the area under the peak after background subtraction) is
normalized to unity for both cryo-rolled and annealed states.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ECMWP ที่เหมาะสมสำหรับสะท้อน (220) ของตัวอย่าง Ag at.% Cu – 3 ใน cryorolledรัฐ และ หลังการอบเหนียวสำหรับ 20 นาทีที่คุณ 623 สัญลักษณ์และเส้นทึบแสดงข้อมูลวัดและเส้นโค้งผ่อน ตามลำดับ การเลี้ยวเบนที่สูงสุดในเงื่อนไข annealed เป็นผลรวมของสองสะท้อนภูมิภาค 1 และ 2มีพารามิเตอร์โครงตาข่ายประกอบเฉลี่ยแตกต่างกัน (ดูรายละเอียดในข้อความ) ในรูปนี้มีความเข้มแบบบูรณาการ (พื้นที่ใต้พีคหลังจากลบพื้นหลัง)ตามปกติการสามัคคีการ cryo สะสม ทั้ง annealed อเมริกา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

eCMWP เหมาะสมสำหรับการสะท้อน (220) ของ Cu-3 ที่.% ตัวอย่าง Ag ใน cryorolled
รัฐและหลังจากการอบ 20 นาทีที่ 623 เคสัญลักษณ์และเส้นทึบ
เป็นตัวแทนของข้อมูลที่วัดและเส้นโค้งติดตั้งตามลำดับ การเลี้ยวเบน
สูงสุดในสภาพอบคือผลรวมของทั้งสองสะท้อนที่เกี่ยวข้องกับภูมิภาคที่ 1 และ 2
มีพารามิเตอร์ตาข่ายเฉลี่ยที่แตกต่างกัน (สำหรับรายละเอียดเห็นข้อความ) ในรูปนี้
ความเข้มแบบบูรณาการ (พื้นที่ใต้จุดสูงสุดหลังจากการลบพื้นหลัง) เป็น
ปกติความสามัคคีทั้งฝั่งรีดและรัฐอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กระชับ ecmwp การสะท้อน ( 220 ) ของจุฬาฯ – 3 % โดยตัวอย่างใน cryorolled
รัฐ และเมื่ออบอ่อนสำหรับ 20 นาทีที่คุณ K . สัญลักษณ์และเส้นทึบ
แสดงข้อมูลวัดและเข็มขัดโค้ง ตามลำดับ โดยการเลี้ยวเบน
สูงสุดในอบเงื่อนไขคือ ผลรวมของทั้งสองสะท้อนเกี่ยวข้องกับภาค 1 และ 2
มีพารามิเตอร์ขัดแตะเฉลี่ยแตกต่างกัน ( รายละเอียดดูข้อความ )ในรูปนี้
แบบเข้ม ( พื้นที่ใต้พีคหลังจากการลบพื้นหลัง )
ปกติเพื่อความสามัคคี ทั้งรีดและอบอ่อนแช่แข็ง อเมริกา