tVarious tungsten (W) coating techn

tVarious tungsten (W) coating techniques have been used for the application of plasma facing material innuclear fusion devices, which resulted in limited success. In this study, a dual-process W coating structurewas developed on a graphite substrate to improve the thermal performance of the coating structure. Thedual-process coating structure consisted of a thin (∼7 m) multilayer W/Mo physical vapor deposition(PVD) coating layer deposited on top of the relatively thick (∼160 m) plasma spray (PS) W coating ona graphite substrate panel. Then the coated sample was exposed to plasma heat flux of 1–3 MW/m2for300 s. With addition of a thin surface PVD coating layer, the microstructure change in underlying PS Wcoating was substantially reduced compared to the simple PS W coating structure. The thickness of overallcoating structure was maintained for the dual-process PVD/PS coated samples after the thermal loadingtests, while a significant reduction in thickness due to surface erosion was observed for the simple PSW coated samples. The improvement in surface erosion resistance in the dual-process coating structurewas discussed in view of the characteristics of PVD and PS coating layers.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีการใช้เทคนิคเคลือบทังสเตน (W) tVarious สำหรับโปรแกรมประยุกต์ของพลาสม่าหันฟิวชั่น innuclear วัสดุอุปกรณ์ ผลสำเร็จจำกัด ในการศึกษานี้ เป็นกระบวนการสอง W เคลือบ structurewas พัฒนาขึ้นบนพื้นผิวแกรไฟต์เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพของโครงสร้างสีความร้อน โครงสร้างเคลือบ Thedual กระบวนการที่ประกอบด้วยการให้บาง (∼7 เมตร) หลาย W/ด กายภาพไอ deposition(PVD) ชั้นเคลือบฝากบนหนาค่อนข้าง (∼160 m) พลาสมาสเปรย์ (PS) W เคลือบกับไฟท์พื้นแผง แล้ว ตัวอย่างเคลือบถูกสัมผัสกับฟลักซ์ความร้อนพลาสมาของ s MW/m2for300 1-3 ด้วยนอกเหนือจากผิว PVD เคลือบบาง ๆ การเปลี่ยนแปลงโครงสร้างจุลภาคพื้นฐาน PS Wcoating ถูกลดลงอย่างมากเมื่อเทียบกับโครงสร้างเคลือบ PS W ง่าย ความหนาของโครงสร้าง overallcoating กรุงสำหรับกระบวนการสองตัวอย่างเคลือบ PVD/PS อย่างเคลือบหลังจากการ loadingtests ความร้อน ในขณะที่ลดความสำคัญในความหนาเนื่องจากการกัดเซาะพื้นผิวพบว่า สำหรับราคา/ตร.ว.ง่าย การปรับปรุงในการต้านทานการกัดกร่อนพื้นผิวใน structurewas คู่กระบวนการเคลือบที่กล่าวถึงในมุมมองลักษณะของชั้นเคลือบ PVD และ PS

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทังสเตน tVarious (W) เทคนิคการเคลือบได้ถูกนำมาใช้สำหรับการประยุกต์ใช้พลาสม่าหันหน้าไปทางวัสดุอุปกรณ์ innuclear ฟิวชั่นซึ่งส่งผลในความสำเร็จที่ จำกัด ในการศึกษานี้เคลือบ W-กระบวนการคู่ structurewas พัฒนาบนพื้นผิวไฟท์เพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการระบายความร้อนของโครงสร้างเคลือบ โครงสร้างเคลือบกระบวนการ Thedual ประกอบด้วยบาง (~7 m?) หลาย W / โมชั้นกายภาพสะสมไอ (PVD) เคลือบฝากที่ด้านบนของที่ค่อนข้างหนา (~160? เมตร) สเปรย์พลาสม่า (PS) W เคลือบพื้นผิวไฟท์ Ona แผงหน้าปัด. จากนั้นกลุ่มตัวอย่างเคลือบได้สัมผัสกับพลาสม่าไหลของความร้อน 1-3 เมกะวัตต์ / s m2for300 ด้วยการเพิ่มพื้นผิวที่บางชั้นเคลือบ PVD การเปลี่ยนแปลงโครงสร้างจุลภาคในพื้นฐาน PS Wcoating ก็ลดลงอย่างมีนัยสำคัญเมื่อเทียบกับ PS ง่ายโครงสร้าง W เคลือบ ความหนาของโครงสร้าง overallcoating ถูกเก็บรักษาไว้สำหรับกระบวนการ PVD คู่ / PS ตัวอย่างเคลือบหลังจาก loadingtests ความร้อนในขณะที่การลดลงอย่างมีนัยสำคัญในความหนาเนืองจากการกัดกร่อนพื้นผิวที่เป็นข้อสังเกตสำหรับ PSW ง่ายเคลือบตัวอย่าง การปรับปรุงในความต้านทานพื้นผิวการกัดเซาะในกระบวนการเคลือบคู่ structurewas กล่าวถึงในมุมมองของลักษณะของ PVD และ PS ชั้นเคลือบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

tvarious ทังสเตน ( W ) เทคนิคการเคลือบจะถูกใช้สำหรับการประยุกต์ใช้พลาสมา ซึ่งวัสดุอุปกรณ์ innuclear ฟิวชั่น ซึ่งส่งผลให้เกิดความสำเร็จจำกัด การศึกษากระบวนการเคลือบแบบ W structurewas พัฒนาบนแผ่นกราไฟท์เพื่อปรับปรุงสมรรถนะของโครงสร้างผิวเคลือบ โครงสร้างกระบวนการชุบ thedual ประกอบด้วยบาง ( หลาย∼ 7 m ) W / Mo สะสมไอทางกายภาพ ( PVD ) เคลือบชั้นฝากไว้บนค่อนข้างหนา ( ∼ 160 เมตร ) พ่นพลาสมา ( PS ) w เคลือบ ONA แกรไฟต์แผ่นแผง แล้วตัวอย่างที่เคลือบถูกฟลักซ์ความร้อนพลาสมา 1 – 3 MW / m2for300 S . ด้วยการเพิ่มบางชั้นเคลือบผิว PVD , โครงสร้างจุลภาคพื้นฐานเปลี่ยนใน PS wcoating ถูกลดลงอย่างมากเมื่อเทียบกับง่าย PS w เคลือบโครงสร้าง ความหนาของ overallcoating โครงสร้างไว้สำหรับกระบวนการแบบ PVD เคลือบตัวอย่าง / ps หลังจากที่ loadingtests ความร้อนในขณะที่ลดลงในความหนา เนื่องจากการกัดกร่อนพื้นผิวสังเกตเพื่อง่าย psw เคลือบตัวอย่าง การปรับปรุงความต้านทานการกัดกร่อนในกระบวนการเคลือบผิวแบบ structurewas กล่าวในมุมมองของลักษณะพฤติกรรมและ PS เคลือบชั้น