An optical filter was situated betw

An optical filter was situated between them to selectively monitor each mode. In the quadratic S2* sulfur mode, emission was routinely monitored using a 393 nm (12 nm bandpass) interference filter (Oriel Instruments,Stratford, USA). Conversely, the linear HSO* sulfur mode used 750 nm (40 nm bandpass) interference filter (Thorlabs, New-ton, USA), while the HPO* phosphorus mode employed a 527 nm(10 nm bandpass) interference filter (Melles Griot, Rochester,USA).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตั้งตัวกรองแสงการเลือกตรวจสอบโหมดแต่ละโหมด ในกำลังสอง S2 * กำมะถันโหมด ปล่อยก๊าซเป็นประจำตรวจสอบใช้ 393 nm (12 nm bandpass) รบกวนตัว (เครื่องมือ Oriel สแตรทฟอร์ด สหรัฐอเมริกา) ในทางกลับกัน เส้น HSO * กำมะถันวิธีใช้ 750 nm (40 nm bandpass) คลื่นแทรกกรอง (Thorlabs, New ton สหรัฐอเมริกา), ในขณะที่ HPO * ฟอสฟอรัสโหมดได้จ้าง 527 nm (10 nm bandpass) รบกวนตัว (Melles Griot โรเชสเตอร์ สหรัฐอเมริกา)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตัวกรองแสงที่ตั้งอยู่ระหว่างพวกเขาที่จะเลือกตรวจสอบแต่ละโหมด ในสมการกำลังสอง S2 * โหมดกำมะถันปล่อยก๊าซเรือนกระจกได้รับการตรวจสอบเป็นประจำใช้ 393 นาโนเมตร (12 นาโนเมตร bandpass) ตัวกรองสัญญาณรบกวน (ออเรียลเครื่องดนตรี, ฟอร์ดสหรัฐอเมริกา) ตรงกันข้าม HSO เชิงเส้น * โหมดกำมะถันที่ใช้ 750 นาโนเมตร (40 นาโนเมตร bandpass) ตัวกรองสัญญาณรบกวน (Thorlabs, นิวตัน, สหรัฐอเมริกา) ในขณะที่โหมด HPO * ฟอสฟอรัสจ้าง 527 นาโนเมตร (10 นาโนเมตร bandpass) ตัวกรองสัญญาณรบกวน (Melles Griot โรเชสเตอร์ ,สหรัฐอเมริกา).

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตัวกรองแสง ตั้งอยู่ระหว่างพวกเขาเพื่อเลือกการตรวจสอบแต่ละโหมด ในโหมดที่ไม่มี S2 * กำมะถัน ที่ปล่อย ได้ตรวจติดตามการใช้ 320 nm ( 12 nm bandpass ) ตัวกรองสัญญาณรบกวน ( เครื่องมือ Oriel Stratford , USA ) ในทางกลับกัน เส้น hso * กำมะถันโหมดใช้ 750 นาโนเมตร ( 40 nm bandpass ) ตัวกรองสัญญาณรบกวน ( thorlabs ใหม่ตัน สหรัฐอเมริกา )ในขณะที่ HPO * ฟอสฟอรัสโหมดใช้ 527 นาโนเมตร ( nm bandpass ) ตัวกรองสัญญาณรบกวน ( เมลส์ griot Rochester , สหรัฐอเมริกา )