The deposition ambient played an im

The deposition ambient played an important role in the films thickness. Increasing the CH4 content in the deposition chamber from 0 to 1 mbar increased the films’ thickness, due to plasma confinement which directed the ablated material towards the substrate. At 10 mbar CH4, the deposition rate was dramatically decreased by more than 95%, probably due to numerous collisions between ablated species and the CH4 molecules, resulting in a slowing down and even complete stop of the species on their track towards the substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สะสมแวดล้อมเล่นมีบทบาทสำคัญในความหนาของฟิล์ม เพิ่มเนื้อหา CH4 ในห้องสะสมจาก 0 ไป 1 mbar เพิ่มความหนาของฟิล์ม เนื่องจากเข้าพลาสม่าซึ่งวัสดุ ablated ต่อกับพื้นผิวโดยตรง ที่ 10 mbar CH4 อัตราสะสมเป็นอย่างมากลดลงมากกว่า 95% ท่องตามมากมายระหว่างสายพันธุ์ ablated และหยุดโมเลกุล CH4 เกิดชะลอตัวลง และจะสมบูรณ์พันธุ์ในการติดตามของพวกเขาต่อกับพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมโดยรอบมีบทบาทสำคัญในความหนาของฟิล์ม การเพิ่มเนื้อหา CH4 ในห้องสะสม 0-1 เอ็มบาร์เพิ่มขึ้นความหนาของฟิล์ม 'เนื่องจากการคุมขังพลาสม่าที่กำกับวัสดุระเหยไปสู่​​พื้นผิว ที่ 10 เอ็มบาร์ CH4 อัตราการสะสมลดลงอย่างมากโดยกว่า 95% อาจเป็นเพราะการชนกันจำนวนมากระหว่างเผ่าพันธุ์ระเหยและโมเลกุล CH4 ผลในการหยุดการชะลอตัวลงและมีความสมบูรณ์มากยิ่งของสายพันธุ์ในการติดตามของพวกเขาที่มีต่อพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พยานแวดล้อมมีบทบาทสำคัญในหนังหนา การเพิ่มเนื้อหาในร่างของห้องจาก 0 ถึง 1 โดยมีค่าเพิ่มขึ้น ความหนาของฟิล์ม ' เนื่องจากพลาสมาจำกัดซึ่งกำกับ ablated วัสดุที่มีพื้นผิว ที่ 10 mbar ร่าง , อัตราการสะสมเป็นอย่างมากลดลงมากกว่า 95 %อาจจะเกิดจากการชนกันระหว่าง ablated หลายสปีชีส์ และร่างของผลในการชะลอตัวลงและสมบูรณ์แม้หยุดของชนิดในการติดตามของพวกเขาที่มีต่อพื้นผิว