No sediment is observed even after

No sediment is observed even after the dispersion
has been centrifuged at 4,000 r.p.m. for several hours. Atomic force microscopy (AFM) shows that
the resulting CCG sheets that are cast on a silicon wafer are flat, with a thickness of ~1 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตะกอนไม่ได้สังเกตแม้หลังจากกระจายตัวมีการ centrifuged ที่ 4000 รอบต่อนาทีหลายชั่วโมง Microscopy แรงอะตอม (AFM) แสดงที่แผ่น CCG เกิดที่โยนบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนถูกแบน มีความหนาของ ~ 1 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไม่มีตะกอนเป็นที่สังเกตแม้หลังจากการกระจายตัว
ได้รับการหมุนเหวี่ยงที่ 4,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลาหลายชั่วโมง กล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม (AFM) แสดงให้เห็นว่า
แผ่น CCG ผลที่ถูกโยนบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนจะแบนที่มีความหนาประมาณ 1 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไม่มีตะกอน เป็นที่สังเกตแม้หลังจากการกระจาย
ได้รับระดับ 4000 r.p.m. เป็นเวลาหลายชั่วโมง กล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม ( AFM ) พบว่า ผล ccg
แผ่นที่ถูกโยนบนซิลิคอนเวเฟอร์จะแบนที่มีความหนาของ ~ 1 นาโนเมตร