A typical procedure simply involved

A typical procedure simply involved the thermal oxidation of these substrates in air
and within the temperature range from 300 to 700 ◦C. It is found that nanowires can only be formed at
thermal temperature of 400 ◦C. It is observed that the growth time has an important effect on the length
and density of the CuO nanowires, whereas the average diameter is almost the same, i.e.50 nm. Different
from the vapor–liquid–solid (VLS) and vapor–solid (VS) mechanism, the growth of nanowires is found to
be based on the accumulation and relaxation of the stress.
©

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนทั่วไปก็เกี่ยวข้องกับออกซิเดชันความร้อนของพื้นผิวเหล่านี้ในอากาศและ ในช่วงอุณหภูมิตั้งแต่ 300 ถึง 700 ◦C จะพบว่า การ nanowires เท่านั้นสามารถเกิดขึ้นที่อุณหภูมิความร้อนของ 400 ◦C แล้วหรือไม่ที่เมื่อเจริญเติบโตมีผลสำคัญกับความยาวและความหนาแน่นของ CuO nanowires เส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยเป็น เกือบจะเดียวกัน i.e.50 nm แตกต่างกันไอของเหลวของแข็ง (VLS) และกลไก (VS) ไอ – ของแข็ง การเติบโตของ nanowires เป็นพบจะขึ้นอยู่กับการสะสมและการผ่อนคลายความเครียด©

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนโดยทั่วไปก็มีส่วนร่วมออกซิเดชันความร้อนของพื้นผิวเหล่านี้ในอากาศและในช่วงอุณหภูมิ 300-700 ◦C
นอกจากนี้ยังพบว่า nanowires
เท่านั้นที่สามารถเกิดขึ้นที่อุณหภูมิความร้อนของ400 ◦C มันเป็นที่สังเกตว่าเวลาการเจริญเติบโตมีผลกระทบที่สำคัญเกี่ยวกับความยาวและความหนาแน่นของเส้นลวดนาโนออกไซด์ในขณะที่มีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยอยู่ที่เกือบจะเหมือนกัน ie50 นาโนเมตร
ที่แตกต่างจากไอของเหลวของแข็ง (VLS) และไอแข็ง (VS) กลไกการเจริญเติบโตของเส้นลวดนาโนที่พบจะต้องขึ้นอยู่กับการสะสมและการผ่อนคลายความเครียด. ©

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนทั่วไปที่เกี่ยวข้องกับการเพียงแค่ความร้อนของพื้นผิวเหล่านี้ในอากาศ
และภายในช่วงอุณหภูมิตั้งแต่ 300 ถึง 700 ◦ C พบว่านาโนที่สามารถสร้างความร้อนที่อุณหภูมิ 400 C .
◦พบว่าเวลาการเจริญเติบโตมีผลสำคัญต่อความยาวและความหนาแน่นของนาโน 2 (
, ส่วนเส้นผ่านศูนย์กลางเฉลี่ยเกือบเดียวกัน i.e.50 nm . แตกต่างกัน
ไอ - ของเหลว - ของแข็งจาก ( vls ) และไอ - ของแข็ง ( VS ) กลไกการเจริญเติบโตของนาโนที่พบ

จะขึ้นอยู่กับการสะสมและผ่อนคลายจากความเครียด สงวนลิขสิทธิ์