The polyimideis patterned in a reac

The polyimide
is patterned in a reactive ion etcher (O2 plasma, 10 mtorr
and 250 W) to open contacts to the bottom metal electrode.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การ polyimideลวดลายใน etcher ไอออนปฏิกิริยา (พลาสม่า O2, 10 mtorrและ 250 W) เปิดติดต่อกับอิเล็กโทรดโลหะด้านล่าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ธ
เธเธฃเป็นลวดลายแกะในปฏิกิริยาไอออน(O2 พลาสม่า 10 mtorr
และ 250 วัตต์) เพื่อเปิดรายชื่อไปยังขั้วโลหะที่ด้านล่าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

polyimide
เป็นลวดลายใน etcher ปฏิกิริยาไอออน ( O2 Plasma , 10 mtorr
และ 250 W ) เพื่อเปิดการติดต่อกับขั้วโลหะด้านล่าง