During hydrolysis, after the lower

During hydrolysis, after the lower decrystallization acid concentration treatment, substrates were hydrolyzed to have more oligomers and also monomers at both 80 C and 100 C.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระหว่างไฮโตรไลซ์ หลังรักษาความเข้มข้นกรดต่ำของ decrystallization พื้นผิวถูก hydrolyzed มีมากกว่า oligomers และ monomers 80 C และ 100 ซี

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในระหว่างการย่อยสลายหลังจากกรด decrystallization ที่ต่ำกว่าการรักษาความเข้มข้นของพื้นผิวที่เป็นไฮโดรไลซ์ที่จะมี oligomers มากขึ้นและยังโมโนเมอร์ทั้ง 80 องศาเซลเซียสและ 100 องศาเซลเซียส

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในระหว่างการย่อยสลาย หลังจากลดความเข้มข้นของกรด decrystallization รักษาพื้นผิวถูกไฮโดรไลซ์ได้มากกว่า และที่บริเวณปลายเมอร์ทั้ง 80  C 100  C