To verify that complete conversion

To verify that complete conversion of silica to silicon takes place in
the magnesiothermic reduction carried out by using the new
approach with vertically aligned mesoporous silica channels, analyses
of wide angle X-ray diffraction (XRD) pattern and X-ray photoelectron
spectroscopy (XPS) spectra were performed. For this
purpose, XRD of silicon nanostructures were prepared by magnesiothermic
reduction reactions of two different silica templates. First,
silicon nanoparticles were generated by employing a conventional
silica-GO composite as a control (black line). In this case, XRD
analysis (Figure 4a) shows that the silica layer not having a porous
structure is formed on the graphene oxide sheets by simply mixing of
TEOS and GO12. Second, silicon nanoparticles were prepared by
using the mesoporous silica structure (red line). Analysis of the
XRD patterns of the silicon particles produced by reduction of the
conventional silica composite show three prominent diffraction
peaks for silicon at 2h 5 28.4u, 47.3u and 56.1u (JCPDS #.65-1060),along with a broad peak around 2h ca. 23u corresponding to residual
silica. In contrast, the XRD pattern for silicon nanoparticle derived
from the mesoporous silica only contains diffraction peaks for silicon
only.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อตรวจสอบว่าการแปลงที่สมบูรณ์ของซิลิกาซิลิกอนที่จะเกิดขึ้นใน
การลด magnesiothermic ดำเนินการโดยใช้ใหม่
ด้วยวิธีการในแนวตั้งช่องซิลิกาเมโซพอรัสวิเคราะห์
ของมุมกว้าง X-ray diffraction (XRD) และรูปแบบการเอ็กซ์เรย์โฟโตอิเล็กตรอน
สเปกโทรสโก (XPS) สเปกตรัมได้ดำเนินการ สำหรับเรื่องนี้
วัตถุประสงค์ XRD ของโครงสร้างนาโนซิลิกอนที่ถูกจัดทำขึ้นโดย magnesiothermic
ปฏิกิริยาการลดลงของสองแม่ซิลิกาที่แตกต่างกัน ครั้งแรกที่
อนุภาคนาโนซิลิกอนถูกสร้างขึ้นโดยการชุมนุม
คอมโพสิตซิลิกา-GO เป็นตัวควบคุม (สายสีดำ) ในกรณีนี้ XRD
วิเคราะห์ (รูปที่ 4a) แสดงให้เห็นว่าชั้นไม่ได้มีซิลิกาที่มีรูพรุน
โครงสร้างจะเกิดขึ้นบนแผ่นกราฟีนออกไซด์โดยเพียงแค่ผสม
TEOS และ GO12 ประการที่สองอนุภาคนาโนซิลิกอนที่ถูกจัดทำขึ้นโดย
ใช้โครงสร้างซิลิกาเมโซพอรัส (สายสีแดง) การวิเคราะห์
รูปแบบ XRD ของอนุภาคซิลิกอนที่ผลิตโดยการลดลงของ
คอมโพสิตซิลิกาธรรมดาแสดงสามเลนส์ที่โดดเด่น
ยอดสำหรับซิลิกอนที่ 2h 5 28.4u, 47.3u และ 56.1u (JCPDS # .65-1060) พร้อมกับจุดสูงสุดในวงกว้างรอบ 2h แคลิฟอร์เนีย 23u ที่สอดคล้องกับที่เหลือ
ซิลิกา ในทางตรงกันข้ามรูปแบบ XRD สำหรับอนุภาคนาโนซิลิกอนที่ได้มา
จากซิลิกาเมโซพอรัสมีเพียงยอดเลนส์สำหรับซิลิกอน
เท่านั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เพื่อตรวจสอบว่า การเปลี่ยนแปลงที่สมบูรณ์ของซิลิกาซิลิคอนที่ใช้ในการลด magnesiothermic
ดำเนินการโดยใช้วิธีการใหม่กับเมโซพอรัสซิลิกาชิดแนวตั้ง

ช่องวิเคราะห์การเลี้ยวเบนรังสีเอ็กซ์แบบมุมกว้าง ( XRD ) และ X-ray photoelectron spectroscopy
( XPS ) โดยการวิจัย สำหรับวัตถุประสงค์นี้
, XRD ของซิลิคอนนาโน เตรียม magnesiothermic
การลดปฏิกิริยาของซิลิกาสองแม่แบบที่แตกต่างกัน แรก
นาโนซิลิคอนถูกสร้างขึ้นโดยการใช้ซิลิกา
ไปประกอบเป็นชุดควบคุม ( เส้นสีดำ ) ในกรณีนี้ , การวิเคราะห์ XRD
( รูปที่ 4 ) พบว่า ซิลิกา ชั้นไม่ได้มีโครงสร้างรูพรุน
เป็นเกิดขึ้นบนแผ่นแกรฟีนออกไซด์โดยเพียงแค่การผสมของเอท และ go12
. ประการที่สอง นาโนซิลิคอน เตรียม
การใช้โครงสร้างเมโซพอรัสซิลิกา ( เส้นสีแดง ) การวิเคราะห์รูปแบบของอนุภาคซิลิคอน
รังสีเอ็กซ์ผลิตโดยลด
ปกติซิลิกาประกอบแสดงสามยอดเขาที่โดดเด่นโดย
สำหรับซิลิคอนที่ 5 28.4u 2H , และ 47.3u 56.1u ( jcpds # . 65-1060 ) พร้อมด้วยกว้างสูงสุดรอบ 2H . 23u สอดคล้องกับซิลิกาอยู่

ในทางตรงกันข้ามการศึกษาเฟสแบบซิลิคอนอนุภาคนาโนได้มา
จากเมโซพอรัสซิลิกาเท่านั้นที่มียอดการเลี้ยวเบนสำหรับซิลิคอน
เท่านั้น