Figure 3. Nanoimprint lithography,

Figure 3. Nanoimprint lithography, the nanoscale
version of a rubber stamp. After the liquid resist (orange)
is dispensed onto the substrate (a), the imprint template
(b) mechanically molds it into the desired patterns.
The resist is cured with UV light (c) to produce the
nanoscale pattern (d). (Adapted from ref. 18.)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 3 การทำลวดลายวงจร Nanoimprint, nanoscaleรุ่นตรายาง หลังจากของเหลวต่อต้าน (ส้ม)จ่ายลงบนพื้นผิว (a), แม่พิมพ์(ข) เครื่องจักรแม่พิมพ์ในรูปแบบที่ต้องการต้านทานจะหาย ด้วยแสง UV (c) การผลิตการรูป nanoscale (d) (ดัดแปลงจากรหัส 18)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 3 พิมพ์หิน nanoimprint ที่ระดับนาโน
รุ่นของตรายาง หลังจากของเหลวต้านทาน (สีส้ม)
จะถูกหยดลงบนพื้นผิว (ก) แม่ประทับ
(ข) กลแม่พิมพ์มันลงไปในรูปแบบที่ต้องการ.
ต่อต้านจะรักษาให้หายขาดด้วยแสงยูวี (ค) ในการผลิต
รูปแบบนาโน (ง) (ดัดแปลงมาจากเตะโทษ. 18)