In the absence of a suitable solid

In the absence of a suitable solid phase for deposition and in supersaturated solutions of pH values from 7 to 10, monosilicic acid polymerizes to form discrete particles. Electrostatic repulsion of the particles prevents aggregation if the concentration of electrolyte is below ~0.2 N. The particle size that can be attained is dependent on the temperature. Particle size increases significantly with increasing temperature. For example, particles 4-8 nm in diameter are obtained at 50-100 C (122-212°F), whereas particles of up to 150 nm in diameter are formed at 350°C (662°F) in an autoclave However, the size of the particles obtained in an autoclave is limited by the conversion of amorphous silica to quartz at high temperatures. Particle size influences the stability of the sol because particles < 7 nm in diameter tend to grow spontaneously in storage, which may affect the sol properties. However, sols can be stabilized by the addition of sufficient alkali

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในกรณีที่ไม่มีระยะไม้เหมาะสำหรับสะสม และโซลูชัน supersaturated ของค่า pH จาก 7 เป็น 10 กรด monosilicic polymerizes ฟอร์มแยกอนุภาค ป้องกันไฟฟ้าสถิตเขม่นของอนุภาครวมถ้าความเข้มข้นของอิเล็กโทรไลท์ที่อยู่ด้านล่าง ~0.2 N. ขนาดอนุภาคที่สามารถจะขึ้นอยู่กับอุณหภูมิ ขนาดอนุภาคเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญกับการเพิ่มอุณหภูมิ เช่น อนุภาคนาโน 4-8 เมตรเส้นผ่านศูนย์กลางจะได้รับที่ 50-100 C (122-212° F), ในขณะที่อนุภาคสูงสุด 150 นิวตันเมตรเส้นผ่านศูนย์กลางเกิดขึ้นที่ 350° C (662° F) ในหม้อนึ่งความดันอย่างไรก็ตาม ขนาดของอนุภาคที่ได้รับในหม้อนึ่งความดันจะถูกจำกัด ด้วยการแปลงของซิลิกาไร้ผลึกที่อุณหภูมิสูง ขนาดอนุภาคมีอิทธิพลต่อเสถียรภาพของโซลลง เพราะ nm < 7 อนุภาคเส้นผ่านศูนย์กลางมีแนวโน้มเติบโตได้อย่างเป็นธรรมชาติในการจัดเก็บ ซึ่งอาจมีผลต่อคุณสมบัติของ sol อย่างไรก็ตาม sols สามารถทรงตัว โดยการเติมด่างที่เพียงพอ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในกรณีที่ไม่มีของแข็งเหมาะสำหรับการสะสมและการแก้ปัญหาการอิ่มตัวของค่าพีเอช 7-10 กรด monosilicic polymerizes ในรูปแบบอนุภาคที่ไม่ต่อเนื่อง เขม่นไฟฟ้าสถิตของอนุภาคป้องกันการรวมตัวถ้าความเข้มข้นของอิเล็กอยู่ด้านล่าง ~ 0.2 N. ขนาดอนุภาคที่สามารถบรรลุขึ้นอยู่กับอุณหภูมิ เพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญขนาดของอนุภาคมีอุณหภูมิเพิ่มขึ้น ยกตัวอย่างเช่นอนุภาค 4-8 นาโนเมตรเส้นผ่าศูนย์กลางจะได้รับที่ 50-100 C (122-212 ° F) ในขณะที่อนุภาคถึง 150 นาโนเมตรเส้นผ่าศูนย์กลางจะเกิดขึ้นที่ 350 ° C (662 ° F) ในหม้อนึ่งความดันอย่างไรก็ตาม ขนาดของอนุภาคที่ได้รับในหม้อนึ่งความดันถูก จำกัด ด้วยการแปลงของซิลิกาอสัณฐานเพื่อควอทซ์ที่อุณหภูมิสูง ขนาดของอนุภาคที่มีอิทธิพลต่อความมั่นคงของ Sol เพราะอนุภาค <7 นาโนเมตรเส้นผ่าศูนย์กลางแนวโน้มที่จะเติบโตตามธรรมชาติในการจัดเก็บซึ่งอาจส่งผลกระทบต่อคุณสมบัติโซล อย่างไรก็ตามรัชทายาทสามารถทรงตัวโดยนอกเหนือจากอัลคาไลเพียงพอ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการขาดของเฟสของแข็งเหมาะสำหรับการสะสมและ supersaturated โซลูชั่นของค่า pH ตั้งแต่ 7 ถึง 10 monosilicic กรด polymerizes ฟอร์มอนุภาคแบบไม่ต่อเนื่อง การขับไล่ของอนุภาคป้องกันไฟฟ้าสถิตรวมถ้าความเข้มข้นของอิเล็กโทรไลต์คือด้านล่าง ~ 0.2 N ขนาดอนุภาคที่สามารถบรรลุจะขึ้นอยู่กับอุณหภูมิ ขนาดอนุภาคเพิ่มขึ้นอย่างมากกับการเพิ่มอุณหภูมิ ตัวอย่างเช่นอนุภาค 4-8 nm เส้นผ่านศูนย์กลางจะได้รับอัตรา 50-100 C ( 122-212 ° F ) ส่วนอนุภาคขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางถึง 150 nm ในรูปแบบที่ 350 องศา C ( 662 ° F ) ในหม้อนึ่งความดัน แต่ ขนาดของอนุภาคในสารละลายหม้อนึ่งความดันจะถูก จำกัด โดยการแปลงของซิลิกาอสัณฐานที่ให้คว อุณหภูมิสูง ขนาดอนุภาคที่มีผลต่อเสถียรภาพของโซล เพราะอนุภาค < 7 nm ในเส้นผ่าศูนย์กลางมีแนวโน้มที่จะเติบโตขึ้นในการจัดเก็บข้อมูล ซึ่งอาจส่งผลกระทบต่อ Sol คุณสมบัติ อย่างไรก็ตาม ซอลส์สามารถคงที่ โดยการเพิ่มของด่างที่เพียงพอ