The wafer spins during this step to

The wafer spins during this step to allow very thin and even application of this photo resist layer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สปินแผ่นเวเฟอร์ในระหว่างขั้นตอนนี้เพื่ออนุญาตให้ใช้บาง และแม้แต่ภาพนี้ต้านทานชั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เวเฟอร์หมุนระหว่างขั้นตอนนี้จะอนุญาตให้บางมากและแม้กระทั่งการประยุกต์ใช้ภาพนี้ต่อต้านชั้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เวเฟอร์สปินในระหว่างขั้นตอนนี้เพื่อให้บางมากและการประยุกต์ใช้แม้กระทั่งรูปนี้

ต่อต้านชั้น