Substantially pure graft copolymers

Substantially pure graft copolymers are formed through ceric
ion initiated polymerization as it produces free radicals exclusively
on polymer substrate to be grafted. To obtain a better reproducibility
in the results, the reaction was carried out under a constant light
source because the oxidative capability of the Ce(IV) ions increases
considerably under light (Vazquez, Goni, Guruchanga, Valero, &
Guzman, 1992). The length of the grafted polymer chains is proportional
to the concentration of ceric ions at a fixed monomer
concentration. With higher concentration of ceric ions, the number
of free radical sites will be more and consequently the length of
grafted chains will be shorter. With lower ceric ion concentration,
the grafted chain length should be larger. The detailed mechanism
proposed for the synthesis of XG-g-PMMA is same as described
elsewhere for other polysaccharide based grafted copolymers of
acrylamide (Mishra et al., 2002).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โคบริสุทธิ์มากรับสินบนจะเกิดขึ้นผ่าน cericไอออนจำนวนเริ่มต้นจะก่อให้เกิดอนุมูลอิสระโดยเฉพาะบนพื้นผิวของพอลิเมอร์การทาบ การแสดงที่ดีในผล ปฏิกิริยาดำเนินการภายใต้แสงคงแหล่งที่มาเนื่องจากเพิ่มความสามารถออกซิเดชันของไอออน Ce(IV)ภายใต้แสงมาก (Vazquez, Goni, Guruchanga วาเล โร &Guzman, 1992) ความยาวของโซ่พอลิเมอร์ทาบเป็นสัดส่วนความเข้มข้นของไอออน ceric ที่น้ำยาแบบถาวรความเข้มข้น ที่สูงกว่าความเข้มข้นของไอออน ceric หมายเลขอนุมูลอิสระเว็บไซต์จะเพิ่มเติม และจากนั้นความยาวของทาบโซ่จะสั้นลง มีความเข้มข้นไอออน ceric ต่ำความยาวสายทาบควรมีขนาดใหญ่ กลไกรายละเอียดนำเสนอการสังเคราะห์ XG-g-PMMA เหมือนกับอธิบายไว้อื่น ๆ สำหรับ polysaccharide อื่น ๆ ขึ้นทาบมีระดับของอะคริลาไมด์ (มิชราเกส์ et al. 2002)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อย่างมีนัยสำคัญ copolymers สินบนบริสุทธิ์ที่เกิดขึ้นผ่าน Ceric
ไอออนพอลิเมอประสบการณ์ในฐานะที่มันผลิตอนุมูลอิสระเฉพาะ
บนพื้นผิวลิเมอร์ที่จะทาบ ที่จะได้รับการทำสำเนาที่ดีขึ้น
ในผลลัพธ์ปฏิกิริยาได้ดำเนินการภายใต้แสงคง
ที่มาเพราะความสามารถในการออกซิเดชันของ Ce (IV) ไอออนเพิ่มขึ้น
อย่างมากภายใต้แสง (Vazquez, อิน, Guruchanga, Valero และ
Guzman, 1992) ความยาวของโซ่พอลิเมทาบเป็นสัดส่วน
กับความเข้มข้นของไอออน Ceric ที่โมโนเมอร์คง
ความเข้มข้น ที่มีความเข้มข้นสูงของไอออน Ceric จำนวน
ของเว็บไซต์อนุมูลอิสระจะมีมากขึ้นและทำให้ความยาวของ
โซ่ทาบจะสั้นลง ที่มีความเข้มข้นของไอออน Ceric ที่ต่ำกว่า
ความยาวโซ่ทาบควรจะมีขนาดใหญ่ รายละเอียดของกลไกการ
เสนอสำหรับการสังเคราะห์ XG-G-PMMA เป็นเดียวกันตามที่อธิบายไว้
ที่อื่น ๆ สำหรับ copolymers ทาบ polysaccharide อื่น ๆ ตามของ
ริลาไมด์ (Mishra et al., 2002)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อย่างมากจะเกิดขึ้นผ่าน ceric ต์โคพอลิเมอร์บริสุทธิ์ไอออนโพลิเมอร์ที่ผลิตขึ้นโดยเฉพาะอนุมูลอิสระบนแผ่นพอลิเมอร์เป็นกราฟ . ได้รับการตรวจสอบดีกว่าในผลลัพธ์ ปฏิกิริยาที่ถูกดำเนินการภายใต้แสงที่คงที่แหล่งที่มาเพราะความสามารถออกซิเดชันของ Ce ( IV ) เพิ่มไอออนกภายใต้แสง ( เควซโกนิ guruchanga Valero , , , , และแมน , 1992 ) ความยาวของกราฟต์พอลิเมอร์โซ่เป็นสัดส่วนเพื่อความเข้มข้นของไอออนที่คงที่ ceric มอนอเมอร์สมาธิ ที่มีความเข้มข้นของไอออน ceric หมายเลขของเว็บไซต์ที่อนุมูลอิสระจะมากขึ้นและดังนั้นความยาวของโดยโซ่จะสั้นลง ราคา ceric ความเข้มข้นของไอออนกราฟต์โซ่ความยาวควรเป็นขนาดใหญ่ กลไกรายละเอียดเสนอการสังเคราะห์ xg-g-pmma เดียวกันตามที่อธิบายไว้อื่นๆตามกราฟต์โคพอลิเมอร์ของพอลิแซ็กคาไรด์อะคริลาไมด์ ( Mishra et al . , 2002 )