Conventional chemical vapor deposit

Conventional chemical vapor deposition (CVD) appears as one of the
techniques available for diamond layer synthesis. To achieve porous
materials, two approaches can be considered: (i) the first being based
on etching processes [19,20] and (ii) the second consisting in diamond
coating of already porous substrates. This latter method has already
been experienced in the literature, at least on carbon nanotubes [21,
22], and appeared to us as the most valuable technique. Here, we propose
a coating method based on an optimized nano-seeding process
via a layer by layer approach [23].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การสะสมไอสารเคมีทั่วไป (เกี่ยวกับปรากฏเป็นหนึ่งในเทคนิคสำหรับการสังเคราะห์เพชรชั้น เพื่อให้บรรลุ porousวัสดุ สามารถพิจารณาแนวทางที่สอง: (i) แรกที่ใช้ในการแกะสลัก (ii) ประกอบด้วยสองในเพชรและกระบวนการ [19,20]การเคลือบพื้นผิวแล้ว porous วิธีหลังนี้ได้แล้วการมีประสบการณ์ในวรรณคดี น้อยบนคาร์บอน nanotubes [2122], และปรากฏเป็นเทคนิคดีที่สุดให้เรา เราเสนอที่นี่วิธีเคลือบผิวตามกระบวนการสำหรับเพิ่มประสิทธิภาพปลูกนาโนผ่านวิธีการชั้นโดยชั้น [23]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไอสารเคมีสะสมธรรมดา (CVD)
จะปรากฏขึ้นเป็นหนึ่งในเทคนิคที่มีอยู่สำหรับการสังเคราะห์ชั้นเพชร เพื่อให้บรรลุรูพรุนวัสดุสองวิธีที่ได้รับการพิจารณา (i) ตัวแรกขึ้นอยู่กับกระบวนการแกะสลัก[19,20] และ (ii) ที่สองประกอบด้วยเพชรเคลือบพื้นผิวที่มีรูพรุนของแล้ว วิธีนี้แล้วหลังได้รับประสบการณ์ในวรรณคดีอย่างน้อยในท่อนาโนคาร์บอน [21, 22] และปรากฏให้เราเป็นเทคนิคที่มีค่าที่สุด ที่นี่เรานำเสนอวิธีการเคลือบบนพื้นฐานของกระบวนการนาโนเพาะที่ดีที่สุดผ่านชั้นโดยวิธีการชั้น[23]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไอสารเคมีแบบสะสม ( CVD ) จะปรากฏเป็นหนึ่งในเทคนิคของชั้น
เพชรสังเคราะห์ เพื่อให้บรรลุวัสดุพรุน
, สองวิธีสามารถพิจารณา : ( ฉัน ) เป็นครั้งแรกที่ใช้ในกระบวนการกัด
[ 19,20 ] และ ( ii ) ที่ประกอบไปด้วยสองเคลือบเพชร
ของรูพรุนแล้วท สองวิธีนี้แล้ว
ได้รับประสบการณ์ในวรรณคดีอย่างน้อยในท่อนาโนคาร์บอน [ 21
22 ] , และปรากฏให้เราเป็นเทคนิคที่มีคุณค่ามากที่สุด ที่นี่เรานำเสนอ
เคลือบวิธีการขึ้นอยู่กับการปรับกระบวนการนาโนเพาะ
ผ่านชั้นโดยชั้นเข้าใกล้ [ 23 ]