The Si-CNT anodes by plasma-enhance

The Si-CNT anodes by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of silicon onto available CNT sheets.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Anodes CNT ศรี โดยสะสมเพิ่มพลาสม่าไอสารเคมี (PECVD) ของซิลิคอนบนแผ่น CNT มี

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

anodes Si-CNT โดยพลาสม่าเพิ่มไอสารเคมีการสะสม (PECVD) ของซิลิกอนลงบนแผ่น CNT ใช้ได้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ศรี CNT anodes ด้วยพลาสมาเพิ่มขึ้น chemical vapor deposition ( pecvd ) ลงบนแผ่นซิลิคอนของเราใช้ได้