because when we run with Gen 2 DLC,

because when we run with Gen 2 DLC, the pre-DLC etching will reduce by 20A, therefore eval group also need to reduce SH target by 2nm so that outgoing SH will be same and get a comparable resistance mean.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เพราะเมื่อเราทำงานด้วย Gen 2 DLC, การแกะสลักก่อน DLC จะลดโดย 20a ดังนั้นกลุ่ม Eval ยังต้องลดเป้าหมายดวลจุดโทษโดย 2nm เพื่อที่ดวลจุดโทษออกจะเหมือนกันและได้รับความต้านทานเทียบได้หมายความว่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เนื่องจากเมื่อเราทำงานกับ Gen 2 DLC กัดก่อน DLC จะลด โดย 20A ดังนั้นกลุ่ม eval ต้องลดเป้าหมาย SH 2nm ให้ดีออกจะเดียวกัน และได้รับเฉลี่ยความต้านทานเทียบเคียงด้วย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เพราะในเมื่อเราทำงานร่วมกับ Gen 2 DLC การทำแม่พิมพ์แบบ DLC จะลดลง 20 ดังนั้นกลุ่มประเมินผลยังต้องการลดเป้าหมาย SH 2 นาโนเมตรเพื่อให้ SH ออกจะเป็นแบบเดียวกันและได้รับหมายถึงการต่อต้านเท่ากัน