to achieve optimum film quality; th

to achieve optimum film quality; this effect is attributed to thermally activated surface diffusion of adatoms on the growing film. Note that a-Si and nc-Si films are deposited at much lower temperature than other polycrystalline thin films for solar cells such as CdTe or CIGS.

A PECVD system usually consists of several major parts: (1) a gas delivery system (gas cylinders, pressure regulators, mass flow controllers, and various gas valves to direct gas flows); (2) a deposition chamber (electrodes, substrate mounts, substrate heaters, and the RF power feed through) capable of high vacuum; (3) a pumping system usually consisting of 3 pumps: a turbomolecular pump and mechanical backing pump for establishing high-purity vacuum, and a separate process pump for removing the gases and other by-products only used during deposition; (4) a pressure control system (capacitance manometer, ionization gauges, thermocouple gauges, and/or throttle valve to monitor and control the chamber pressure); (5) high-frequency power supply (RF or VHF supply with impedance matching network); and (6) an exhaust system for the process gases (typically either a chemical scrubber to neutralize the gases or a “burn box” to pyrolyze them). In multichamber systems there is a transfer system to move substrates inside the vacuum system between various deposition chambers through appropriate gate valves. Large-volume manufacturing systems typically do not have turbomolecular pumps due to their cost and maintenance.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เพื่อคุณภาพของฟิล์มที่เหมาะสม ผลกระทบนี้เป็นบันทึกที่แพร่เปิดใช้งานความร้อนพื้นผิวของ adatoms บนแผ่นฟิล์มเติบโต หมายเหตุว่า เป็นศรีและ nc ในภาพยนตร์ฝากมากอุณหภูมิต่ำกว่าอื่น ๆ คฟิล์มบางสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์เช่นลลูหรือ CIGSPECVD ระบบมักจะประกอบด้วยหลายส่วนที่สำคัญ: (1) ระบบส่งก๊าซ (ภาชนะบรรจุก๊าซ ควบคุมความดัน ตัวควบคุมการไหลมวล และวาล์วแก๊สต่าง ๆ ตรงกระแสก๊าซ); (2 ห้อง)สะสม (อิเล็กโทรด ยึดพื้น พื้นผิวเครื่องทำความร้อน และพลัง RF ฟีดผ่าน) ความสามารถในการดูดสูง (3) ระบบปั๊มน้ำที่ประกอบด้วยเครื่องสูบน้ำที่ 3: turbomolecular ปั๊มและปั๊มกลไกสนับสนุนสำหรับการสร้างสุญญากาศบริสุทธิ์ และปั๊มแยกกระบวนการขจัดก๊าซและผลิตภัณฑ์พลอยได้อื่น ๆ ที่ใช้เฉพาะ ในระหว่างสะสม (4)ระบบควบคุมความดัน (ความจุ manometer ไอออไนซ์เกจ เกจ thermocouple หรือเค้นวาล์วเพื่อติดตามและควบคุมความดันห้อง); (5) แหล่งจ่ายไฟความถี่สูง (RF หรือ VHF จ่ายจับคู่อิมพีแดนซ์ของเครือข่าย); และ (6) ระบบไอเสียสำหรับก๊าซกระบวนการ (โดยทั่วไปทั้งการเคมีเครื่องขัดลดก๊าซหรือ "กล่องเขียน" การไป pyrolyze พวกเขา) ในระบบ multichamber มีระบบโอนย้ายพื้นผิวภายในระบบสูญญากาศระหว่างหลายสะสมห้องผ่านวาล์วประตูที่เหมาะสม ระบบการผลิตปริมาณมากมักจะมี turbomolecular ปั๊มเนื่องจากต้นทุนและการบำรุงรักษา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อให้ได้คุณภาพที่ดีที่สุดภาพยนตร์; ผลกระทบนี้มีสาเหตุมาจากการแพร่กระจายความร้อนบนพื้นผิวการเปิดใช้งานของ adatoms ในภาพยนตร์ที่กำลังเติบโต โปรดทราบว่าที่ศรีและ NC-Si ภาพยนตร์จะฝากไว้ที่อุณหภูมิต่ำกว่า polycrystalline ฟิล์มบางอื่น ๆ สำหรับเซลล์แสงอาทิตย์เช่น CdTe หรือ CIGS. ระบบ PECVD มักจะประกอบด้วยชิ้นส่วนที่สำคัญหลายประการคือ (1) ระบบการจัดส่งก๊าซ (ถังก๊าซ หน่วยงานกำกับดูแลความดัน, ควบคุมการไหลของมวลก๊าซและวาล์วต่างๆให้ตรงกระแสก๊าซ); (2) ห้องทับถม (ขั้วไฟฟ้าที่เมาท์พื้นผิว, เครื่องอุ่นพื้นผิวและอาหารพลังงาน RF ผ่าน) ความสามารถในการสูญญากาศสูง (3) ระบบการสูบน้ำมักจะประกอบด้วย 3 ปั๊ม: ปั๊ม turbomolecular และปั๊มสนับสนุนเครื่องจักรกลสำหรับการสร้างสูญญากาศมีความบริสุทธิ์สูงและปั๊มกระบวนการแยกเอาก๊าซและอื่น ๆ โดยผลิตภัณฑ์ที่ใช้เฉพาะในช่วงการสะสม; (4) ระบบการควบคุมความดัน (manometer ความจุวัดไอออนไนซ์, เครื่องวัดอุณหภูมิและ / หรือวาล์วปีกผีเสื้อเพื่อตรวจสอบและควบคุมความดันในห้อง); (5) การจัดหาพลังงานความถี่สูง (RF หรือ VHF อุปทานที่มีเครือข่ายความต้านทานการจับคู่); และ (6) ระบบไอเสียก๊าซกระบวนการ (โดยทั่วไปไม่ว่าจะเป็นเครื่องฟอกสารเคมีเพื่อแก้ก๊าซหรือ "เผาไหม้กล่อง" เพื่อ pyrolyze พวกเขา) ในระบบการ multichamber มีระบบการโอนจะย้ายพื้นผิวภายในระบบสุญญากาศระหว่างห้องต่างๆทับถมผ่านวาล์วประตูที่เหมาะสม ระบบการผลิตในปริมาณมากมักจะไม่ได้มีปั๊ม turbomolecular เนื่องจากค่าใช้จ่ายและการบำรุงรักษาของพวกเขา