The substrates were then chemically

The substrates were then chemically cleaned with a hot alkaline solution
(NH4OH:H2O2:H2O = 1:1:6) at 80 °C for 15 min.


rinsed with DIW, dipped into a diluted HF solution, and rinsed again with DIW.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวถูกแล้วสารเคมีทำความสะอาด ด้วยการละลายด่างร้อน(NH4OH:H2O2:H2O = 1:1:6) ที่ 80 ° C สำหรับ 15 นาที rinsed ด้วย--การเพิ่มประสิทธิภาพ จุ่มลงในโซลูชัน HF แตกออก และ rinsed อีก ด้วย--เพิ่มประสิทธิภาพ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวจากนั้นก็ทำความสะอาดสารเคมีด้วยสารละลายด่างร้อน
(NH4OH: H2O2: H2O = 1: 1: 6). ที่ 80 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 15 นาทีล้างด้วยDIW จุ่มลงในสารละลายเจือจาง HF และล้างอีกครั้งกับกรมโรงงานอุตสาหกรรม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เคมีพื้นผิวแล้วทำความสะอาดด้วยสารละลายด่างร้อน
( nh4oh : แบตเตอรี่ : H2O = 1:1:6 ) 80 ° C เป็นเวลา 15 นาที ล้างด้วย

กรอ. จุ่มลงในสารละลายเจือจาง HF และล้างอีกครั้งกับ กรอ. .