the need for a subsequent neutraliz

the need for a subsequent neutralization treatment were omitted to avoid substrate modification (Feng and Chen, 2008).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

จำเป็นสำหรับการรักษาที่วางตัวเป็นกลางในเวลาต่อมาถูกตัดออกเพื่อหลีกเลี่ยงพื้นผิว modification (Feng และเฉิน 2008)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความจำเป็นในการรักษาวางตัวเป็นกลางต่อมาถูกมองข้ามที่จะหลีกเลี่ยงสารตั้งต้น Modi Fi ไอออนบวก (ฮและเฉิน, 2008)