Multilayer hafnium oxide (HfO2) thi

Multilayer hafnium oxide (HfO2) thin films deposited
by electron beam evaporation at room temperature on three different
glass substrates (including Corning, commercial and wind
screen glasses) are discussed for their surface analysis using

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แฮฟเนียมหลายชั้นออกไซด์ (HfO2) ฟิล์มบางฝากโดยระเหยลำแสงอิเล็กตรอนที่อุณหภูมิห้องในสามแตกต่างกันพื้นผิวแก้ว (รวมทั้งคอร์นทำ พาณิชย์ และลมจอแก้ว) จะกล่าวถึงการใช้วิเคราะห์พื้นผิวของพวกเขา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลายฮาฟเนียมออกไซด์ (HfO2) ฟิล์มบางฝาก
โดยการระเหยลำแสงอิเล็กตรอนที่อุณหภูมิห้องในสามที่แตกต่างกัน
พื้นผิวกระจก (รวม Corning, การค้าและลม
แว่นตาหน้าจอ) จะกล่าวถึงในการวิเคราะห์พื้นผิวของตนโดยใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ด.ญ. ออกไซด์หลายชั้น ( hfo2 ) ฟิล์มบางฝาก
โดยลำแสงอิเล็กตรอนที่อุณหภูมิห้องบนพื้นผิวของกระจกที่แตกต่างกัน 3
( รวมถึง Corning , พาณิชย์และลม
แว่นตาจอ ) มีการกล่าวถึงของพื้นผิวการวิเคราะห์โดยใช้