Titanium foil (0.1 mm thick) with a

Titanium foil (0.1 mm thick) with a purity of 99.8% was used to
prepare the TNAs. After mechanically polished with abrasive paper
of different size, the titanium foil was rinsed in an ultrasonic bath
of acetone, ethanol, and deionized water in turn. The titanium foil
was chemically etched by immersing in a mixture of HF and HNO3
(HF:HNO3:H2O = 1:3:6 in volume, total 50 mL) for 10 s, followed by
rinsing in deionized water and finally drying in a N2 stream at room
temperature before anodization. The anodization was carried out
in a two-electrode cell with titanium foil as the working electrode
and platinum foil as the counter electrode at 20V under ambient
temperature. The electrolytes were 0.3 wt% NH4F and 2 vol% H2O in
ethylene glycol. After 2 h of anodization, the sample was immediatelyultrasonic
washed withdeionized water to remove the surface
debris and dried with a N2 stream. Then it was annealed at 773K
in air for 1 h to convert the amorphous phase to the crystalline one
for subsequent use.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใช้ฟอยล์ไทเทเนียม (0.1 mm หนา) มีความบริสุทธิ์ 99.8%เตรียม TNAs หลังจากกลไกขัด ด้วยกระดาษ abrasiveขนาดต่าง ๆ ฟอยล์ไทเทเนียมถูก rinsed ในการอัลตราโซนิกอะซีโตน เอทานอล และเปิดน้ำ deionized ฟอยล์ไทเทเนียมสารเคมีมีการแกะสลัก โดยแช่ในส่วนผสมของ HF และ HNO3(HF:HNO3:H2O = 1:3:6 ปริมาณ รวม 50 มล.) สำหรับ 10 s ตามด้วยทำความสะอาดในน้ำ deionized และการอบแห้งในกระแส N2 ห้องสุดท้ายอุณหภูมิก่อน anodization Anodization ที่ถูกดำเนินการในเซลล์อิเล็กโทรดสองด้วยฟอยล์ไทเทเนียมเป็นอิเล็กโทรดทำงานและแพลตตินั่มฟอยล์เป็นอิเล็กโทรดตัวนับที่ 20V ภายใต้สภาวะอุณหภูมิ ไลต์ได้ 0.3 wt % NH4F และ 2 vol % H2Oเอทิลีนเอทิ หลังจาก h 2 ของ anodization ตัวอย่าง immediatelyultrasonicล้างน้ำ withdeionized เอาพื้นผิวเศษ และแห้ง ด้วยกระแส N2 แล้ว มันถูก annealed ที่ 773Kในอากาศสำหรับ h 1 แปลงเฟสไปกับผลึกใช้เวลาต่อมา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ฟอยล์ไททาเนียม (0.1 มิลลิเมตร) ที่มีความบริสุทธิ์ 99.8%
ถูกใช้ในการเตรียมความพร้อมTNAs หลังจากขัดด้วยกระดาษกลขัดขนาดแตกต่างกัน, ฟอยล์ไททาเนียมที่ถูกล้างในอ่างอัลตราโซนิกของอะซีโตนเอทานอลและน้ำปราศจากไอออนในทางกลับกัน ฟอยล์ไทเทเนียมถูกฝังทางเคมีโดยการแช่ในส่วนผสมของ HF และ HNO3 (HF: HNO3: H2O = 1: 3: 6 ในปริมาณรวม 50 มิลลิลิตร) สำหรับ 10 วินาทีตามด้วยการล้างในน้ำปราศจากไอออนและในที่สุดการอบแห้งในN2 กระแสที่ห้องอุณหภูมิก่อนanodization anodization ได้ดำเนินการในเซลล์สองขั้วด้วยกระดาษฟอยล์ไททาเนียมเป็นขั้วไฟฟ้าทำงานและฟอยล์ทองคำเป็นอิเล็กโทรดที่เคาน์เตอร์20V รอบภายใต้อุณหภูมิ อิเล็กโทรไลเป็น 0.3% โดยน้ำหนัก NH4F และ 2% โดยปริมาตร H2O ในเอทิลีนไกลคอล หลังจากนั้น 2 ชั่วโมง anodization ตัวอย่างเป็น immediatelyultrasonic ล้างน้ำ withdeionized การลบพื้นผิวเศษและแห้งที่มีกระแสN2 จากนั้นก็จะได้รับการอบที่ 773K ในอากาศเป็นเวลา 1 ชั่วโมงในการแปลงเฟสสัณฐานกับผลึกหนึ่งสำหรับการใช้งานที่ตามมา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไทเทเนียม ฟอยล์ ( หนา 0.1 mm ) กับความบริสุทธิ์ของ 99.8% ใช้
เตรียม tnas . หลังจากการขัดด้วย
abrasive กระดาษขนาดต่าง ๆ , titanium ฟอยล์ถูกล้างในอ่างอัลตราโซนิก
อะซิโตน เอทานอล และคล้ายเนื้อเยื่อประสานน้ำในการเปิด ไทเทเนียมเคมีศัสตรา
ถูกฝังโดยแช่ในสารละลายของกรด ( HF : กรดดินประสิวกรดดินประสิว
: H2O = 1:3:6 ในปริมาณรวม 50 ml ) 10 วินาที ตามด้วย
ล้างในน้ำแห้งคล้ายเนื้อเยื่อประสานและสุดท้ายกระแสก๊าซไนโตรเจนที่อุณหภูมิห้อง
ก่อนที่โนไดเซชั่น . ที่โนไดเซชั่นได้ดำเนินการ
ในเซลล์สองขั้วไฟฟ้าด้วย titanium ฟอยล์เป็นขั้วไฟฟ้าทำงาน
และแพลทินัมเป็นขั้วไฟฟ้าที่เคาน์เตอร์ฟอยล์ 20v ภายใต้อุณหภูมิปกติ

ไลท์เป็น 0.3 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและ nh4f h2o 2 Vol 1
เอทิลีนไกลคอล หลังจาก 2 ชั่วโมงของโนไดเซชั่น ,จำนวน immediatelyultrasonic
withdeionized น้ำล้างเอาเศษและแห้งกับพื้นผิว
2 กระแส จากนั้นก็อบที่ 773k
ในอากาศเป็นเวลา 1 ชั่วโมง เพื่อแปลงเฟสไปในผลึกหนึ่ง
สำหรับใช้ในภายหลัง