quartz substrates and annealed unde

quartz substrates and annealed under ultra-high vacuum at 500 °C and
600 °C for 1 h at each temperature.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวของควอทซ์และอบภายใต้สูงสูญญากาศที่อุณหภูมิ 500 ° C และ600 ° C เป็นเวลา 1 ชม.ที่อุณหภูมิแต่ละ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวผลึกและอบภายใต้สุญญากาศสูงพิเศษที่ 500 องศาเซลเซียสและ
600 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 ชั่วโมงในแต่ละอุณหภูมิ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ควอตซ์พื้นผิว และอบภายใต้สูญญากาศสูงพิเศษ 500 ° C และ600 ° C เป็นเวลา 1 ชั่วโมง ในแต่ละอุณหภูมิ