The atomic ratio of F/Sn is calcula

The atomic ratio of F/Sn is calculated to be about 1:7. After TiCl4 treatment, the amount of Ti atoms account for 12.02%. For one, two and three cycles of Al2O3 coating, the ratio of Al atoms increases from 1.41% to 5.40% immediately, suggesting a growing thickness of the Al2O3 layer along with the Al2O3 coating cycles

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีคำนวณอัตราส่วนอะตอมของ F/Sn จะ ประมาณ 1:7 หลังจากที่รักษา TiCl4 จำนวนอะตอมตี้บัญชี 12.02% หนึ่ง รอบสอง และสามของ Al2O3 เคลือบ อัตราส่วนของอัลอะตอมเพิ่มขึ้นจาก 1.41% 5.40% ทันที แนะนำชั้น Al2O3 ด้วย Al2O3 เคลือบวงจรหนาเจริญเติบโต

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อัตราส่วนอะตอมของ F / Sn คำนวณจะเกี่ยวกับ 1: 7 หลังจากการรักษา TiCl4 จำนวนอะตอม Ti บัญชีสำหรับ 12.02% สำหรับหนึ่งสองและสามรอบของการเคลือบ Al2O3 อัตราส่วนของอัลอะตอมเพิ่มขึ้นจาก 1.41% เป็น 5.40% ทันทีบอกความหนาที่เพิ่มขึ้นของชั้น Al2O3 พร้อมกับรอบการเคลือบ Al2O3

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อัตราส่วนอะตอมของ F / SN คำนวณได้ถึง 1 : 7 . หลังจาก ticl4 รักษาปริมาณ Ti อะตอมบัญชี 12.02 เปอร์เซ็นต์ หนึ่ง สอง สามรอบเคลือบอะลูมิเนียม , อัตราส่วนของอัลอะตอมเพิ่มขึ้น จากร้อยละ 1.41 5.40 % ทันที จะเติบโต ความหนาของชั้นเคลือบอะลูมิเนียมอะลูมิเนียมพร้อมกับวงจร