Cu films on Si substrate deposited

Cu films on Si substrate deposited by direct current (dc) magnetron sputtering were oxidized without finding large-scale of nanowires.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Cu ฟิล์มบนพื้นผิวในที่ฝากเงิน โดยพ่น magnetron กระแสตรง (dc) ถูกออกซิไดซ์โดยไม่ค้นหาขนาดใหญ่ของ nanowires

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์ Cu บนพื้นผิวศรีฝากกระแสตรง (DC) สปัตเตอร์แมกถูกออกซิไดซ์โดยไม่ต้องค้นหาขนาดใหญ่ของ nanowires

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฟิล์มบนพื้นผิวทองแดงศรีฝากโดยไฟฟ้ากระแสตรง ( DC ) แมกนีตรอนสปัตเตอริงถูก oxidized โดยไม่พบขนาดใหญ่ของ
นาโน .