We report on a simple UV photolitho

We report on a simple UV photolithography based
fabrication for an epoxy-based filtration membrane and
its primary features such as the permeability and the
elastic modulus toward a design of polymer-based
microfluidic systems. The elastic modulus of filtration
membrane was measured by an indentation test, and then
which was evaluated by a cross-linked ratio of epoxy
group to clarify the dependence on the process
parameters. It was revealed for the first time that the
elastic modulus for filtration membrane varied from 3.8
GPa to 4.9 GPa according to the cross-linked ratio of 0.5
to 0.75.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เรารายงาน photolithography UV อย่างที่ใช้งานสำหรับการใช้อีพ๊อกซี่กรองเมมเบรน และคุณลักษณะหลักเช่นที่ permeability และโมดูลัสยืดหยุ่นต่อการออกแบบของพอลิเมอร์ตามระบบ microfluidic โมดูลัสยืดหยุ่นของกรองเมมเบรนถูกวัด โดยการทดสอบย่อหน้า และซึ่งถูกประเมิน โดยอัตราส่วน cross-linked ของ epoxyกลุ่มที่พึ่งพาการชี้แจงพารามิเตอร์ มันถูกเปิดเผยสำหรับครั้งแรกที่การโมดูลัสยืดหยุ่นสำหรับกรองเมมเบรนที่แตกต่างกันจาก 3.8เกรดเฉลี่ยถึง 4.9 เกรดเฉลี่ยตามอัตราส่วน cross-linked 0.5ไป 0.75

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เรารายงานใน 43 UV อย่างง่าย ใช้ผลิตเป็นเยื่อกรองอีพ็อกซี่

คุณสมบัติพื้นฐานและหลัก เช่น การซึมผ่านและค่าโมดูลัสยืดหยุ่นต่อการออกแบบ

ไมโครฟลูอิดิกพอลิเมอร์จากระบบ ค่าโมดูลัสยืดหยุ่นของการกรองผ่านเยื่อ
วัดจากการทดสอบเยื้องแล้ว
ซึ่งประเมินโดยเชื่อมโยงระหว่างอีพ็อกซี่
กลุ่มเพื่อชี้แจงการพึ่งพากระบวนการ
พารามิเตอร์ มันถูกเปิดเผยเป็นครั้งแรกว่า โมดูลัสยืดหยุ่นสำหรับการกรองผ่านเยื่อที่แตกต่างกัน

เกรดเฉลี่ย GPA ลดลง 2.9% ตามการเชื่อมโยงในอัตราส่วน 0.5
0.75 .