Bare and modified silica NPs were s

Bare and modified silica NPs were synthesized via three different procedures. In all experiments the concentration of
TEOS as the precursor of NPs synthesis, the molar ratio of H2O/TEOS and ammonia concentration were kept constant in
0.25 mol/L, 38 and 0.5 mol/L, respectively. In order to synthesize the bare and PEG grafted silica NPs, similar procedures,
described in our previous published work [38], were applied. Brief explanations are given in the following paragraph.
Bare silica NPs were synthesized by one-pot/one-step sol-gel method. A solution containing 0.25 mol/L TEOS in 200 ml
EtOH was prepared by vigorously stirring at 65 C under nitrogen atmosphere. After 5 min, NH4OH and H2O were added.
The final solution was centrifuged at 12,000 rpm for 10 min and then rinsed by DI water and ethanol for several times to
ensure the removal of unreacted materials. The particles were dried at 75 C for 24 h to obtain the final NPs.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เปลือย และแก้ไขซิ NPs ถูกสังเคราะห์ผ่านสามขั้นตอนแตกต่างกัน ในทุกความเข้มข้นของการทดลองการTEOS เป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์ NPs อัตราส่วนโมเลกุลของ H2O/TEOS และแอมโมเนียความเข้มข้นที่ถูกเก็บไว้คงที่ใน0.25 mol/L, 38 และ 0.5 mol/L ตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปลือย และ PEG ทาบซิ NPs ขั้นตอนที่คล้ายกันอธิบายในงานเผยแพร่ก่อนหน้านี้ [38] ถูกนำไปใช้ อธิบายไว้ในย่อหน้าต่อไปนี้ซิลิก้าเปลือย NPs ถูกสังเคราะห์ โดยหนึ่งหม้อ/หนึ่งขั้นตอนลเจ โซลูชันที่ประกอบด้วย 0.25 mol/L TEOS ในขนาด 200 มล.คะแนนจัดทำ โดยกวนแรง ๆ ที่ 65 C ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที NH4OH และ H2O ถูกเพิ่มทางออกสุดท้ายจากที่ 12,000 rpm 10 นาที และล้าง ด้วยน้ำ DI และเอทานอลสำหรับหลาย ๆ ครั้งเพื่อทำให้การกำจัดวัสดุ unreacted อนุภาคได้แห้ง 75 c เป็นเวลา 24 ชั่วโมงเพื่อขอรับ NPs ขั้นสุดท้าย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เปลือยและการแก้ไข NPS ซิลิกาสังเคราะห์ผ่านสามขั้นตอนที่แตกต่างกัน ในการทดลองทุกความเข้มข้นของ
TEOS เป็นสารตั้งต้นของการสังเคราะห์ NPS ที่อัตราส่วนของ H2O / TEOS และความเข้มข้นของแอมโมเนียจะถูกเก็บไว้อย่างต่อเนื่องใน
0.25 mol / L, 38 และ 0.5 โมล / ลิตรตามลำดับ เพื่อสังเคราะห์เปลือยและ PEG NPS ทาบซิลิกาวิธีการที่คล้ายกัน
อธิบายไว้ในผลงานตีพิมพ์ของเราก่อนหน้านี้ [38], ถูกนำไปใช้ คำอธิบายสั้น ๆ จะได้รับในวรรคต่อไปนี้.
กรมอุทยานฯ ซิลิกาเปลือยถูกสังเคราะห์โดย / ขั้นตอนเดียววิธีโซลเจลหนึ่งหม้อ วิธีการแก้ปัญหาที่มี 0.25 mol / L TEOS ใน 200 มล.
EtOH ถูกจัดทำขึ้นโดยแรงกวนที่ 65 องศาเซลเซียสภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน หลังจาก 5 นาที, NH4OH และ H2O ถูกเพิ่ม.
การแก้ปัญหาสุดท้ายก็หมุนเหวี่ยงที่ 12,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 10 นาทีแล้วล้างออกด้วยน้ำ DI และเอทานอลหลาย ๆ ครั้งเพื่อ
ให้แน่ใจว่าการกำจัดของวัสดุ unreacted อนุภาคแห้งที่ 75 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 24 ชั่วโมงเพื่อให้ได้สุดท้ายของกรมอุทยานฯ