3.1.2. Optical emission spectroscop

3.1.2. Optical emission spectroscopy and plasma parameters
Fig. 6 (a) depicts the emission spectra of the glow discharge in 80%
H2+20% Ar and for the gas mixture containing 1.00% CH4. The spectra
present atomic emission lines of Ar and H, and molecular bands of
H2. The identification was done according to [28,29] and spectra are
similar to that presented by [30,31] in ArH2 and H2 discharges, respectively.
The addition of 1.00% CH4 in the glow discharge does not
imply in the appearance of new peaks or molecular bands due to
CH4, at least at sufficient intensity. So in the studied condition, the optical
emission spectroscopy cannot be applied to the process control,
as proposed by [32] for high temperature plasma carburizing.
Nevertheless, it is clear that the introduction of CH4 causes a global
reduction on the intensity of the peaks. In Fig. 6 (b) a detail of some
intense Ar and H atomic lines is presented. It can be noticed that
adding CH4 up to 0.50%, a reduction of the emission intensity is verified.
On the other hand, adding CH4 from 0.50 up to 1.00%, the intensity
reduction becomes insignificant.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3.1.2 การมลพิษปติกและพลาสม่าพารามิเตอร์(A) 6 fig. มีภาพแรมสเป็คตรามลพิษของปล่อยเรืองแสงใน 80%H2 + 20% Ar และ 1.00% CH4 ที่ประกอบด้วยส่วนผสมแก๊ส แรมสเป็คตรามีรายการปล่อยก๊าซอะตอม Ar H และวงโมเลกุลของH2 รหัสทำตาม [28,29] และมีแรมสเป็คตราเหมือนกับที่แสดง โดย [30,31] ปล่อย ArH2 และ H2 ตามลำดับนอกจากนี้ 1.00% CH4 ในปล่อยเรืองแสงไม่ได้ในลักษณะที่ปรากฏของยอดใหม่หรือวงโมเลกุลเนื่องCH4 อย่างน้อยที่เข้มข้นเพียงพอ ดังนั้นในสภาพ studied การแสงกมลพิษไม่สามารถใช้การควบคุมกระบวนการเป็นเสนอ โดย [32] carburizing พลาสมาอุณหภูมิสูงอย่างไรก็ตาม เป็นที่ชัดเจนว่า การแนะนำของ CH4 ทำให้สากลลดลงในความเข้มของแห่ง Fig. 6 (b) รายละเอียดของการนำเสนอรุนแรง Ar และ H อะตอมบรรทัด สามารถสังเกตเห็นที่เพิ่ม CH4 ขึ้น 0.50% มีการตรวจสอบการลดลงของความเข้มการปล่อยก๊าซบนมืออื่น ๆ CH4 เพิ่มจากขึ้น 0.50-1.00% ความเข้มลดลงเป็นสำคัญ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3.1.2 สเปกโทรสโกการปล่อยแสงและพลาสม่าพารามิเตอร์
รูป 6 (ก) แสดงให้เห็นถึงการปล่อยสเปกตรัมของการปล่อยเรืองแสงใน 80%
H2 + 20% เท่และก๊าซผสมที่มี 1.00% CH4 สเปกตรัม
ปัจจุบันสายการปล่อยก๊าซเรือนกระจกของอะตอมเท่นและเอชและวงดนตรีระดับโมเลกุลของ
H2 บัตรประจำตัวที่ทำตาม [28,29] และสเปกตรัมเป็น
แบบเดียวกับที่นำเสนอโดย [30,31] ใน Ar H2 H2 และปล่อยตามลำดับ.
นอกเหนือจาก 1.00% ในการปฏิบัติ CH4 เรืองแสงไม่ได้
บ่งบอกในลักษณะที่ปรากฏ ของยอดเขาใหม่หรือวงดนตรีที่โมเลกุลเนื่องจาก
CH4 อย่างน้อยในความเข้มเพียงพอ ดังนั้นในสภาพการศึกษา, ออปติคอล
สเปกโทรสโกการปล่อยก๊าซไม่สามารถนำไปใช้กับการควบคุมกระบวนการ
ที่เสนอโดย [32] สำหรับอุณหภูมิสูง carburizing พลาสม่า.
แต่มันเป็นที่ชัดเจนว่าการแนะนำของ CH4 ทำให้ทั่วโลก
ลดความเข้มของยอดเขา . ในรูป 6 (ข) รายละเอียดของบางอย่าง
เท่และรุนแรง H เส้นอะตอมจะนำเสนอ ก็สามารถที่จะสังเกตเห็นว่า
การเพิ่ม CH4 ถึง 0.50% การลดลงของความเข้มการปล่อยก๊าซที่มีการยืนยัน.
ในทางกลับกันการเพิ่ม CH4 จาก 0.50 ถึง 1.00% ความเข้ม
ลดลงกลายเป็นที่ไม่มีนัยสำคัญ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3.1.2 . สเปกโทรสโกปีแสงเล็ดรอดและพลาสมาพารามิเตอร์
รูปที่ 6 ( ) แสดงให้เห็นการปล่อยสเปกตรัมของแสงจำหน่ายใน 80 %
% H2 20 AR และแก๊สผสมที่ประกอบด้วย 1.00% ร่าง . สเปกตรัมเส้นเปล่งแสง AR
ปัจจุบันอะตอมและโมเลกุล H และวงดนตรี
H2 . การกระทำตาม 28,29 ] และ [ สเปกตรัมเป็น
คล้ายกับที่นำเสนอโดย [ 30,31 ] ใน H2 AR และ discharges H2 ,2 .
เพิ่ม 1.00% ในร่างเรืองแสงปลดไม่ได้
บ่งบอกในลักษณะใหม่ของยอด หรือกลุ่มโมเลกุลเนื่องจาก
ร่างน้อยที่ความเข้มเพียงพอ ดังนั้นในการศึกษาสภาพแสง
ปล่อยสเปกโทรสโกปีไม่สามารถใช้เพื่อควบคุมกระบวนการ
ตามที่เสนอโดย [ 32 ] สำหรับ Carburizing พลาสมาอุณหภูมิสูง .
อย่างไรก็ตามเป็นที่ชัดเจนว่าสาเหตุเบื้องต้นของร่างการทั่วโลก
บนความเข้มของยอดเขา ในรูปที่ 6 ( ข ) รายละเอียดของบาง
เข้ม AR และ H สายอะตอมคือแสดง มันอาจจะสังเกตเห็นว่าร่าง
เพิ่มถึง 0.50% , การลดลงของการเข้มตรวจสอบ .
บนมืออื่น ๆ , การเพิ่มร่างตั้งแต่ 0.50 ถึง 1.00 % ความเข้ม
ลดได้เล็กน้อย