Reactive PLD was used to deposit Ti

Reactive PLD was used to deposit TiN thin films on
Si by varying the substrate temperature and N2 pressure.
At 10−3
torr (13 × 10−2
Pa) working pressure, the hardness
and elastic modulus of the TiN thin films were maximized
when the substrate temperature was 450 o
C. Also, the
texture coefficient of the TiN thin film has the highest
value as compared with TiN thin films grown in other
deposition conditions. In the case of the TiN thin films
as-grwon at a fixed substrate temperature of 450 o
C, a
high hardness was obtained when the working pressure
was lower than 10−3
torr (13 × 10−2
Pa). All the films that
have a preferential (111) plane peak show a high hardness
(higher than 30 GPa). These results indicate that the
reactive PLD of TiN thin films on Si can improve the
mechanical and structural properties of the films significantly
as compared to that of TiN thin films grown with nonreactive PLD.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

PLD ปฏิกิริยาใช้ฝากทินฟิล์มบางบน
ศรี โดยแตกต่างกันพื้นผิวอุณหภูมิและ N2 ดัน
ที่ 10−3
ธอร์ (13 × 10−2
Pa) ทำงานความดัน ความแข็ง
และโมดูลัสยืดหยุ่นของฟิล์มบางดีบุกได้ขยายใหญ่สุด
เมื่ออุณหภูมิพื้นผิวถูก 450 o
C ยัง
สัมประสิทธิ์พื้นผิวของฟิล์มบางดีบุกได้ที่สูงที่สุดจาก
ค่าตกทินฟิล์มบางที่ปลูกในที่อื่น ๆ
สภาพสะสม ในกรณีของฟิล์มบางดีบุก
เป็น grwon ที่อุณหภูมิพื้นผิวถาวรของ 450 o
C เป็น
ความแข็งสูงกล่าวเมื่อความดันทำงาน
ต่ำกว่า 10−3
ธอร์ (13 × 10−2
Pa) ภาพยนตร์ทั้งหมดที่
ได้สูงสุดระนาบ (111) ต้องแสดงความแข็งสูง
(มากกว่า 30 GPa) ผลลัพธ์เหล่านี้บ่งชี้ว่า การ
ปฏิกิริยา PLD ทินฟิล์มบางบนศรีสามารถปรับปรุงการ
คุณสมบัติทางกล และโครงสร้างของภาพยนตร์อย่างมาก
เมื่อเทียบกับที่ฟิล์มบางทินโตกับ nonreactive PLD

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ปฏิกิริยา PLD ถูกใช้ในการฝากเงินดีบุกฟิล์มบางบน
ศรีโดยการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิของพื้นผิวและความดัน N2
ที่ 10-3
Torr (13 × 10-2
ป่า) ความดันทำงานความแข็ง
และมอดูลัสยืดหยุ่นของดีบุกฟิล์มบางได้รับการขยายใหญ่สุด
เมื่อ อุณหภูมิพื้นผิวเป็น 450 o
C. นอกจากนี้
ค่าสัมประสิทธิ์พื้นผิวของฟิล์มบางดีบุกมีสูงสุด
ค่าเทียบกับฟิล์มดีบุกบางอื่น ๆ ที่ปลูกใน
สภาพการสะสม ในกรณีของฟิล์มบางดีบุก
ตาม grwon ที่อุณหภูมิพื้นผิวคงที่ 450 o
C,
ความแข็งสูงที่ได้รับเมื่อความดันในการทำงาน
ต่ำกว่า 10-3
Torr (13 × 10-2
ป่า) ภาพยนตร์ทุกเรื่องที่
มีสิทธิพิเศษ (111) ยอดเครื่องบินแสดงความแข็งสูง
(สูงกว่า 30 จีพี) ผลลัพธ์เหล่านี้บ่งชี้ว่า
ปฏิกิริยาของ PLD TiN ฟิล์มบางบนศรีสามารถปรับปรุง
สมบัติเชิงกลและโครงสร้างของภาพยนตร์อย่างมีนัยสำคัญ
เมื่อเทียบกับที่ของภาพยนตร์ดีบุกบางปลูกด้วย nonreactive PLD

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปฏิกิริยา PLD เคยฝากดีบุกฟิล์มบางบน
ศรีที่ใช้อุณหภูมิและความดัน N2 .
ที่ 10 − 3
ทอร์ ( 13 × 10 − 2
PA ) ความดัน , ความแข็งและค่าโมดูลัสยืดหยุ่นของ

ฟิล์มบางดีบุกมากที่สุดเมื่ออุณหภูมิแผ่นรองรับได้ 450 O
C นอกจากนี้ ,
( ค่าสัมประสิทธิ์ของฟิล์มบางดีบุกได้สูงสุด
มูลค่าเมื่อเทียบกับฟิล์มบางดีบุกขึ้น
อื่น ๆเงื่อนไขการ ในกรณีของฟิล์มบางดีบุก
เป็น grwon ที่พื้นผิวคงที่อุณหภูมิ 450 O
c ,
ความแข็งสูงได้เมื่อความดัน
ต่ำกว่า 10 − 3
ทอร์ ( 13 × 10 − 2
PA ) ทั้งหมดภาพยนตร์ที่
มีสิทธิพิเศษ ( 111 ) เครื่องบินยอดโชว์
ความแข็งสูง ( สูงกว่า 30 คะแนน ) ผลลัพธ์เหล่านี้บ่งชี้ว่า ปฏิกิริยาของฟิล์มบางดีบุก PLD

ในจังหวัดสามารถปรับปรุงโครงสร้างและสมบัติเชิงกลของฟิล์มอย่างมาก
เมื่อเทียบกับที่ของฟิล์มบางดีบุกปลูก nonreactive PLD .