3.2. Film propertiesThe TiO2 films

3.2. Film properties
The TiO2 films have been characterized with respect to composition,
microstructure, morphology and optical properties.
3.2.1. Composition
The composition is quantified regarding the main constituents Ti
and O byWDXRF. The analysis of the Ti Kα1, Ti Kα2 and O Kα1 fluorescence
line intensities yields for all samples an atomic composition
of Ti: 33.6 ± 0.8 at.% and O: 66.4 ± 0.8 at.%, which represents stoichiometric
TiO2. Photoelectron spectroscopy was used to detect residual
carbon and nitrogen from possibly incomplete precursor
molecule dissociation. Since XPS is very sensitive to the surface of
the specimen, atmospheric contaminations contribute strongly. To
clean the surface from atmospheric carbon-containing species, Ar
ion sputtering was carried out. Due to preferential sputtering, the
layer composition is however altered, and the Ti/O ratio obtained
in this way is not comparable to results yielded by WDXRF. XPS results
show that after sputter cleaning carbon is present in all samples
in concentrations of 1 at.% or lower. Nitrogen was detected with increasing
concentrations for increasing substrate temperatures with
a maximum value of about 6 ± 2 at.% at TS = 320 °C.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3.2 คุณสมบัติของฟิล์มฟิล์ม TiO2 ได้ถูกลักษณะกับองค์ประกอบต่อโครงสร้างจุลภาค สัณฐานวิทยา และคุณสมบัติของแสง3.2.1 การเขียนองค์ประกอบจะ quantified เกี่ยวกับ constituents หลักตี้และ O byWDXRF การวิเคราะห์ของ fluorescence ตี้ Kα1, Kα2 ตี้ และ O Kα1ปลดปล่อยก๊าซบรรทัดทำให้สำหรับตัวอย่างทั้งหมดมีองค์ประกอบของอะตอมของตี้: at.% ± 0.8 และ O: 66.4 ± 0.8 at.% ซึ่งแสดงถึง stoichiometric 33.6TiO2 ก photoelectron ถูกใช้เพื่อตรวจสอบส่วนที่เหลือจากคาร์บอนและไนโตรเจนจากสารตั้งต้นอาจจะไม่สมบูรณ์dissociation โมเลกุล เนื่องจากสำคัญมากไปยังพื้นผิวของ XPSสิ่งส่งตรวจ ปนบรรยากาศสนับสนุนอย่างยิ่ง ถึงทำความสะอาดผิวจากบรรยากาศประกอบด้วยคาร์บอนชนิด Arพ่นไอออนถูกดำเนิน เนื่องจากต้องพ่น การอย่างไรก็ตามมีการเปลี่ยนแปลงองค์ประกอบชั้น และได้รับอัตราส่วน ตี้/Oวิธีนี้ไม่ได้เทียบเท่ากับผลที่ให้ผล โดย WDXRF ผลลัพธ์ XPSแสดงว่า หลังจาก sputter คาร์บอนที่ทำความสะอาดอยู่ในตัวอย่างทั้งหมดในความเข้มข้นของ at.% หรือต่ำกว่า 1 ไนโตรเจนพบกับเพิ่มความเข้มข้นสำหรับการเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวด้วยค่าสูงสุดประมาณ 6 ± 2 at.% ที่ TS = 320 องศาเซลเซียส

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3.2 คุณสมบัติของฟิล์ม
ภาพยนตร์ TiO2 มีลักษณะที่เกี่ยวกับองค์ประกอบ
จุลภาคสัณฐานวิทยาและสมบัติทางแสง.
3.2.1 องค์ประกอบ
องค์ประกอบคือการวัดเกี่ยวกับองค์ประกอบหลัก Ti
และ O byWDXRF การวิเคราะห์ Ti Kα1, Ti Kα2และ O Kα1เรืองแสง
ความเข้มเส้นอัตราผลตอบแทนสำหรับตัวอย่างทุกองค์ประกอบของอะตอม
ของ Ti: 33.6 ± 0.8% และ O:.. 66.4 ± 0.8% ซึ่งหมายถึงทฤษฎี
TiO2 สเปกโทรสโกโฟโตอิเล็กตรอนถูกใช้ในการตรวจสอบที่เหลือ
คาร์บอนและไนโตรเจนจากสารตั้งต้นที่ไม่สมบูรณ์อาจจะ
แยกออกจากโมเลกุล ตั้งแต่ XPS มีความสำคัญมากกับพื้นผิวของ
ตัวอย่างที่ปนเปื้อนในชั้นบรรยากาศมีส่วนร่วมอย่างมาก ในการ
ทำความสะอาดผิวหน้าจากสายพันธุ์คาร์บอนที่มีบรรยากาศ Ar
สปัตเตอร์ไอออนได้รับการดำเนินการ เนื่องจากสปัตเตอร์พิเศษ
องค์ประกอบชั้นมีการเปลี่ยนแปลงอย่างไรและอัตราส่วน Ti / O ที่ได้รับ
ในทางนี้ไม่ได้เทียบเคียงกับผลการยอมแพ้โดย WDXRF ผล XPS
แสดงให้เห็นว่าหลังจากการทำความสะอาดพ่นคาร์บอนมีอยู่ในทุกตัวอย่าง
ในระดับความเข้มข้นที่ 1.% หรือต่ำกว่า ไนโตรเจนที่ตรวจพบด้วยการเพิ่ม
ความเข้มข้นในการเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวที่มี
มูลค่าสูงสุดประมาณ 6 ± 2 ที่.% ที่ TS = 320 ° C

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3.2 . สมบัติของฟิล์ม ) ภาพยนตร์
มีลักษณะและองค์ประกอบ โครงสร้างและสมบัติเชิงแสงของ
, .
ดำเนินงาน . องค์ประกอบองค์ประกอบมี quantified
เกี่ยวกับองค์ประกอบหลักตี่
O bywdxrf . การวิเคราะห์ของ Ti Ti K K α 1 , 2 และα O K α 1 เรือง
เส้นเข้มผลผลิตทั้งหมดเป็นองค์ประกอบของอะตอมตัวอย่าง
Ti : 33.6 ±ที่ 0.8 % O : 66ที่ 4 ± 0.8 % ซึ่งแสดงถึงอัตราส่วน
) . โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโทรสโกปีถูกใช้เพื่อตรวจหาคาร์บอนและไนโตรเจนจากอาจจะไม่ครบที่เหลือ

โมเลกุลตั้งต้นในการ . เนื่องจาก XPS อ่อนไหวมากกับพื้นผิวของชิ้นงาน
บรรยากาศปนเปื้อนส่งผลอย่างยิ่ง

สะอาดพื้นผิวคาร์บอนจากบรรยากาศที่มีชนิด AR
ไอออนทำงานได้ดําเนินการเนื่องจากสิทธิพิเศษส ,
ชั้นองค์ประกอบคือการเปลี่ยนแปลงอย่างไรก็ตาม อัตราส่วนของ Ti / o )
นี่มันเทียบไม่ได้กับผลที่ให้ผลโดย wdxrf . ผลลัพธ์ที่แสดงให้เห็นว่าหลังจากที่ละล่ำละลัก XPS
ทำความสะอาดคาร์บอนมีอยู่ในทุกตัวอย่าง
ในความเข้มข้น 1 % หรือต่ำกว่า ไนโตรเจนที่ตรวจพบด้วยการเพิ่มความเข้มข้นเพื่อเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวด้วย

มูลค่าสูงสุดประมาณ 6 ± 2 % ที่ TS = 320 องศา