Materials and methods
2.1. Reagents
Tetraethyl orthosilicate (TEOS) (99.99%, Aldrich), ethanol
(99.99%, Aldrich), and ammonium hydroxide (28%,
Wako) were used without any further purification. Milli-Q
water (18.2 ) was used throughout the experiment.
2.2. Characterization
Silica particles were prepared using a sol–gel process
with a sequential addition technique in an ultrasonication
bath. Various types of experiments were conducted in which
the concentration of one reagent was fixed and the concentration
of other reagents were changed one by one.
Particle sizes were measured using field emission scanning
electron microscopy (FE-SEM, JEOL, F 6500, Japan).
Clean glass capillaries were used to transfer a droplet of each
sample of suspension to highly oriented pyrolitic graphite
(HOPG). The samples were allowed to dry and then micrographs
were taken at a number of random locations on the
grid. The size of the particles was calculated from the SEM
pictures using an average of 100 to 200 particles in almost
all cases. The electronic absorption behavior was analyzed
using a UV PC spectrophotometer (Shimadzu 3100).
2.3. Synthesis of silica nanoparticles
The monodisperse uniform-sized silica nanoparticles
were prepared by hydrolysis of TEOS in ethanol medium in
the presence of ammonium hydroxide. Fig. 1 is a schematic
diagram of the synthesis of silica particles and homogeneous
samples were prepared by the following procedure.
วัสดุและวิธีการ2.1. เปื้อนOrthosilicate Tetraethyl (TEOS) (99.99%, Aldrich), เอทานอล(99.99%, Aldrich), และแอมโมเนียไฮดรอกไซด์ (28%Wako) ถูกนำมาใช้โดยไม่บริสุทธิ์ใด ๆ เพิ่มเติม หนึ่ง-Qน้ำ (18.2) ถูกใช้ตลอดการทดลอง2.2. สมบัติอนุภาคซิลิกาที่เตรียมโดยใช้กระบวนการโซลเจลด้วยเทคนิคตามลำดับนอกจากนี้ในการ ultrasonicationบาท ได้ดำเนินการทดลองชนิดต่าง ๆ ซึ่งความเข้มข้นของสารหนึ่งถูกแก้ไข และความเข้มข้นของ reagents อื่น ๆ ถูกเปลี่ยนแปลงโดยหนึ่งขนาดอนุภาคถูกวัดโดยใช้การสแกนการปล่อยดัตช์ (FE-SEM, JEOL, F 6500 ญี่ปุ่น)ใช้หลอดแก้วที่สะอาดการโอนหยดของแต่ละตัวอย่างของระบบกันสะเทือนแนวสูง pyrolitic ไฟท์(HOPG) ตัวอย่างที่ได้รับอนุญาตให้แห้ง แล้ว micrographsถ่ายที่ที่ตำแหน่งต่าง ๆ บนตัวตาราง คำนวณขนาดของอนุภาคจาก SEMรูปภาพโดยใช้ค่าเฉลี่ยของอนุภาค 100 ถึง 200 ในเกือบทุกกรณี การทำงานอิเล็กทรอนิกส์การดูดซึมใช้สเปคยูวีพี (Shimadzu 3100)2.3. การสังเคราะห์ซิลิกาเก็บกักการเก็บกักของซิลิกาขนาดเหมือนกัน monodisperseย่อยสลายของ TEOS ในเอทานอลในณการปรากฏตัวของแอมโมเนียไฮดรอกไซด์ รูปที่ 1 คือ schematicไดอะแกรมของการสังเคราะห์อนุภาคซิลิกา และเป็นเนื้อเดียวกันมีเตรียมตัวอย่าง โดยวิธีการต่อไป
การแปล กรุณารอสักครู่..
