2. EXPERIMENTAL PROCEDUREBoth the h

2. EXPERIMENTAL PROCEDURE
Both the high density plasma nitriding and the RF-sputtering systems are utilized to make pre-hardening and nano-laminated DLC coating on the SKD11 substrate, respectively.

2.1 High Density Plasma Nitriding
In the present plasma nitriding system, both RF- and DC-plasmas are generated by RF and DC power supplies, independently. As shown in Fig. 1, RF-plasma is ignited by dipole electrode, while DC-plasma is driven by DC-bias on the cathode plate. The generated plasma has symmetric configuration in the electricity field since the vacuum chamber is electrically neutral. There is no mechanical matching box; matching between input and output powers is automatically maintained by frequency control around 2 MHz. In addition, the focused nitrogen plasma flux can be irradiated onto the samples by using the magnetic lens. Nitrogen plasma is first utilized for pre-sputtering the samples; mixed gas of nitrogen and hydrogen is used in the plasma nitriding. The flow rate ratio in the mixed gas affects the species of ions and radicals. In particular, the yield of NH-radicals in the generated species increases with reducing the ratio of the hydrogen flow rate to the nitrogen one. In fact, after Ref. [1], the measured intensity of NH-radicals by the emissive light spectroscopy reaches to 25-30 % of the maximum intensity of N2+ ion as shown in Fig. 2. This measured spectrum proves that high yield of NH-radicals as well as activated nitrogen atoms are available in the present plasma nitriding.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

2 การขั้นตอนที่ทดลองทำไนไตรด์พลาสม่าความหนาแน่นสูงและระบบพ่น RF ถูกนำมาใช้เพื่อทำให้แข็งก่อน และ DLC เคลือบนาโนเคลือบบนพื้นผิว SKD11 ตามลำดับ 2.1 ความหนาแน่นสูงพลาสม่าทำไนไตรด์ ในระบบทำไนไตรด์ปัจจุบันของพลาสมา ทั้ง RF - และ DC-plasmas สร้างขึ้น โดยใช้พลังงาน RF และ DC วัสดุ รายงานการ ตามที่แสดงใน Fig. 1, RF พลาสมาเป็นลุก โดยอิเล็กโทรด dipole ขณะขับเคลื่อน DC พลาสมา โดย DC อคติบนแผ่นแคโทด พลาสม่าที่สร้างขึ้นมีโครงแบบสมมาตรในฟิลด์ไฟฟ้าห้องสุญญากาศเป็นกลางไฟฟ้า มีกล่องไม่ตรงกับเครื่องจักรกล การจับคู่ระหว่างอินพุท และเอาท์พุทอำนาจโดยอัตโนมัติไว้ โดยการควบคุมความถี่ประมาณ 2 MHz สามารถ irradiated บนตัวอย่างไหลพลาสม่าไนโตรเจนโฟกัสโดยเลนส์แม่เหล็ก ก่อนมีใช้ไนโตรเจนพลาสมาสำหรับก่อนพ่นตัวอย่าง แก๊สผสมของไนโตรเจนและไฮโดรเจนถูกใช้ในทำไนไตรด์พลาสม่า อัตราส่วนอัตราการไหลในแก๊สผสมมีผลต่อชนิดของประจุและอนุมูล โดยเฉพาะอย่างยิ่ง ผลตอบแทนของอนุมูล NH ในชนิดสร้างเพิ่มกับลดอัตราส่วนของอัตราการไหลของไฮโดรเจนไนโตรเจนหนึ่ง ในความเป็นจริง หลังจากอ้างอิง [1], ความเข้มวัดของอนุมูล NH โดยกแสง emissive ถึง 25-30% ของความเข้มสูงสุดของ N2 + ไอออนมาก Fig. 2 คลื่นนี้วัดพิสูจน์ผลตอบแทนที่สูงของอนุมูล NH เป็นอะตอมไนโตรเจนทั้งที่เปิดใช้งานใช้ทำไนไตรด์พลาสม่าอยู่

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.
ขั้นตอนการทดลองทั้งไนไตรด์พลาสม่าความหนาแน่นสูงและระบบRF-สปัตเตอร์ถูกนำมาใช้เพื่อให้การก่อนการแข็งตัวและการเคลือบ DLC นาโนเคลือบบนพื้นผิว SKD11 ตามลำดับ. 2.1 ความหนาแน่นสูง Nitriding พลาสม่าในระบบพลาสม่าในปัจจุบันไนไตรด์ทั้งRF - และ DC-พลาสมาจะถูกสร้างโดย RF และ DC อุปกรณ์ไฟฟ้าอิสระ ดังแสดงในรูป 1, RF-พลาสม่าถูกจุดประกายโดยขั้วอิเล็กโทรดในขณะที่ DC-พลาสม่าถูกขับเคลื่อนโดย DC-อคติบนแผ่นแคโทด พลาสม่าที่สร้างมีการกำหนดค่าส่วนในด้านการผลิตไฟฟ้าตั้งแต่ห้องสูญญากาศเป็นเป็นกลางทางไฟฟ้า ไม่มีการจับคู่กล่องกล; การจับคู่ระหว่างอำนาจเข้าและส่งออกจะยังคงอยู่โดยอัตโนมัติโดยการควบคุมความถี่ประมาณ 2 MHz นอกจากนี้ฟลักซ์พลาสม่าที่เน้นไนโตรเจนสามารถฉายรังสีไปยังกลุ่มตัวอย่างโดยใช้เลนส์แม่เหล็ก พลาสม่าไนโตรเจนถูกนำมาใช้เป็นครั้งแรกสำหรับสปัตเตอร์ก่อนตัวอย่าง; ก๊าซผสมของไนโตรเจนและไฮโดรเจนที่ใช้ในไนไตรด์พลาสม่า อัตราส่วนอัตราการไหลในก๊าซผสมมีผลต่อชนิดของไอออนและอนุมูล โดยเฉพาะอย่างยิ่งผลผลิตของ NH-อนุมูลชนิดที่สร้างขึ้นเพิ่มขึ้นกับการลดอัตราส่วนของอัตราการไหลของไฮโดรเจนไนโตรเจนหนึ่ง ในความเป็นจริงหลังจากที่อ้างอิง [1], วัดความเข้มของอนุมูล-NH โดยสเปกโทรสโกแสง emissive ถึง 25-30% ของความเข้มสูงสุดของ N2 + ไอออนดังแสดงในรูป 2. วัดสเปกตรัมนี้พิสูจน์ให้เห็นว่าอัตราผลตอบแทนที่สูงของ NH-อนุมูลเช่นเดียวกับอะตอมไนโตรเจนเปิดใช้งานที่มีอยู่ในปัจจุบันไนไตรด์พลาสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2 . ทดลองกระบวนการพลาสมาไนไตรดิง
ทั้งความหนาแน่นสูงและ RF ระบบสปัตเตอร์ที่ใช้ทำก่อนการแข็งตัวและนาโนเคลือบ DLC เคลือบบนพื้นผิว SKD11 )

2.1 สูงความหนาแน่นพลาสมา nitriding
ในปัจจุบันพลาสมา nitriding ระบบทั้ง RF และ DC พลาสมาจะถูกสร้างโดย RF และ DC พาวเวอร์ซัพพลายอย่างอิสระ ดังแสดงในรูปที่ 1RF พลาสม่าที่ติดไฟ โดยขั้วไฟฟ้า ส่วนพลาสมา คือการขับเคลื่อนด้วย DC DC bias หลอดบนจาน สร้างพลาสม่าได้สมมาตรการกําหนดค่าในฟิลด์การไฟฟ้าตั้งแต่สูญญากาศเป็นกลางไฟฟ้า ไม่มีการจับคู่ที่ตรงกันระหว่างกลกล่อง ; ข้อมูลและอำนาจส่งออกโดยอัตโนมัติรักษาโดยการควบคุมความถี่ประมาณ 1 MHz นอกจากนี้โดยพลาสมาไนโตรเจนฟลักซ์สามารถฉายรังสีไปยังตัวอย่างโดยใช้เลนส์แม่เหล็ก พลาสมาไนโตรเจนเป็นครั้งแรกใช้ก่อนทำงานตัวอย่าง ก๊าซผสมของไนโตรเจนและไฮโดรเจนที่ใช้ในพลาสมาไนไตรดิง . อัตราส่วนอัตราการไหลในก๊าซผสมมีผลต่อชนิดของไอออน และอนุมูลอิสระ โดยเฉพาะอย่างยิ่งผลผลิตของ NH อนุมูลอิสระในสร้างชนิดเพิ่มด้วยการลดอัตราส่วนของอัตราการไหลของ ไฮโดรเจน ไนโตรเจน 1 ในความเป็นจริงหลังจากอ้างอิง [ 1 ] , วัดความเข้มของ NH อนุมูลโดยสเปกโทรสโกปีแสงคาถึง 25-30% ของความเข้มสูงสุด N2 ไอออนดังแสดงในรูปที่ 2นี้วัดสเปกตรัมพิสูจน์ว่า ผลผลิตสูงของ NH อนุมูลอิสระรวมทั้งใช้ไนโตรเจนที่มีอยู่ในพลาสมา nitriding
ของขวัญ