In Step II, the ZnO surface layers

In Step II, the ZnO surface layers were preheated at 250 °C and annealed between 550 and 650 °C
which exhibited smooth and homogeneous surfaces compared to other films annealed at different temperatures.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในขั้นตอน II ชั้นพื้นผิวของ ZnO ต่ำที่ 250 ° C และ annealed ระหว่าง 550 และ 650 ° Cการจัดแสดงพื้นผิวเรียบ และเป็นเนื้อเดียวกันเปรียบเทียบกับฟิล์มอื่น ๆ annealed ที่อุณหภูมิแตกต่างกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในขั้นตอนที่สองชั้นพื้นผิวของซิงค์ออกไซด์อุ่นที่ 250 องศาเซลเซียสและอบระหว่าง 550 และ 650 องศาเซลเซียส
ซึ่งแสดงพื้นผิวเรียบเป็นเนื้อเดียวกันและเมื่อเทียบกับเรื่องอื่น ๆ อบที่อุณหภูมิที่แตกต่างกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในขั้นตอนที่สอง , ZnO พื้นผิวชั้นถูกเตาอบที่ 250 องศา C อบระหว่าง 550 และ 650 ° C ซึ่งมีพื้นผิวที่เรียบและเป็นเนื้อเดียวกัน
เมื่อเทียบกับภาพยนตร์เรื่องอื่น ๆ อบที่อุณหภูมิต่าง ๆ