2. Experimental detailsSolid-state

2. Experimental details
Solid-state reaction between stoichiometric mixture of Cu2O and Al2O3 at 1400 K in air produced CuAlO2 powder.This powder was then placed into a grooved aluminium holder (~5 cm diameter) and pressed into pellet by hydrostatic pressure and used as target for dc sputtering. The
sputtering unit was evacuated by standard rotary-diffusion pump arrangement to a base pressure of 10
4 Pa. The target was arranged as an upper electrode and -ve bias was applied on it.Ultrasonically cleaned glass and Si substrates were placed on the lower electrode and connected to the ground of the power supply. The electrode distance was taken as 1.8 cm. Ar and O2 (40 vol.%) were taken as sputtering gas and the sputtering was done in an elevated substrate temperature(~453 K) to achieve high crystallinity in the film.Postdeposition annealing of the films (at 473 K) in an O2 atmosphere (20 Pa pressure) for different annealing times(ta) ranging from 30 to 150 min were performed to induce

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2. รายละเอียดการทดลอง
ปฏิกิริยาแบบ solid-state ส่วนผสมระหว่างทฤษฎีของ Cu2O และ Al2O3 ที่ 1400 K ในอากาศผลิตผง CuAlO2 powder.This ถูกวางไว้แล้วเป็นผู้ถืออลูมิเนียมร่อง (~ เส้นผ่าศูนย์กลาง 5 ซม.) และกดลงเม็ดโดยความดันและนำมาใช้เป็น เป้าหมายของสปัตเตอร์ dc
หน่วยสปัตเตอร์ถูกโยกย้ายโดยการจัดปั๊มหมุนแพร่มาตรฐานความดันฐาน 10? 4 ป่า. เป้าหมายที่ได้รับการจัดเป็นขั้วไฟฟ้าบนและอคติ -ve ถูกนำมาใช้ในการทำความสะอาด it.Ultrasonically แก้วและพื้นผิวศรีถูกวางไว้บนที่ต่ำกว่า อิเล็กโทรดและเชื่อมต่อกับพื้นดินของแหล่งจ่ายไฟ ระยะทางอิเล็กโทรดถูกนำมาเป็น 1.8 ซม Ar และ O2 (40 vol.%) ถูกนำมาเป็นก๊าซสปัตเตอร์และสปัตเตอร์ที่ทำในอุณหภูมิที่พื้นผิวสูง (~ 453 K) เพื่อให้บรรลุความเป็นผลึกสูงในการหลอม film.Postdeposition ของภาพยนตร์ (ที่ 473 K) ใน O2 บรรยากาศ (20 ดันป่า) ครั้งหลอมที่แตกต่างกัน (ตา) ตั้งแต่ 30-150 นาทีได้ดำเนินการที่จะทำให้เกิด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2 . รายละเอียดของการทดลอง
ของแข็งปฏิกิริยาระหว่างผสมอัตราส่วนของ cu2o Al2O3 ที่ 1400 และ K ในเครื่องผลิต cualo2 ผง ผงนี้ถูกวางไว้แล้วลงในร่องอลูมิเนียมยึด ( ~ 5 ซม. ) และอัดเป็นเม็ด โดยความดันอุทกสถิต และใช้เป็นเป้าหมายสำหรับดีซีสปัตเตอริง .
ทำงานเป็นหน่วยอพยพ โดยมาตรฐานปั๊มโรตารีแพร่จัดกับฐานที่ความดัน 10
4 . เป้าหมายถูกจัดเป็นบนขั้วไฟฟ้าและได้ใช้อคติกับมัน ultrasonically ทำความสะอาดกระจกและพื้นผิวศรีถูกวางไว้บนขั้วล่าง และเชื่อมต่อกับพื้นดินของแหล่งจ่ายไฟ ขั้วไฟฟ้าระยะถ่ายที่ 1.8 ซม. AR และ O2 ( 40 ฉบับ% ) ถ่ายตอนแก๊สทำงาน และทำงานได้ในอุณหภูมิพื้นผิวสูง ( ~ 453 K ) เพื่อให้บรรลุความเป็นผลึกสูงในฟิล์ม postdeposition การหลอมของภาพยนตร์ ( 473 K ) ในบรรยากาศออกซิเจน ( 20 PA ความดัน ) คนละครั้ง ( TA ) ขนาดตั้งแต่ 30 - 150 นาทีแสดง เพื่อจูง