In contrast, atomic layerdeposition

In contrast, atomic layer
deposition (ALD) has been proved to be an adequate technique
for growing SnO2 films on a 3D architecture

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในทางตรงข้าม ชั้นอะตอมสะสม (ALD) ได้รับการพิสูจน์จะ มีเทคนิคเพียงพอสำหรับฟิล์ม SnO2 เติบโตบนสถาปัตยกรรม 3D

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในทางตรงกันข้ามชั้นอะตอมการสะสม (มรกต) ได้รับการพิสูจน์แล้วว่าเป็นเทคนิคที่เพียงพอสำหรับการเจริญเติบโตภาพยนตร์SnO2 บนสถาปัตยกรรม 3D

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในทางตรงกันข้าม , อะตอม ชั้นคำให้การของพยาน ( ald ) ได้พิสูจน์แล้วว่าเป็นเทคนิคที่เพียงพอสำหรับการเติบโตของ SnO2 ภาพยนตร์สถาปัตยกรรม 3 มิติ