reason for higher gloss of films of

reason for higher gloss of films of ALK 9, which is in agreement with
glossometer values, mentioned in Table 4. The increase in smoothness
is due to better flow and leveling arising out of lower dilution
viscosity of the polymers with increased DPE content (Fig. 1) and
also the controlled initial drying phenomenon as observed from
the DSC study (Fig. 6). Refractive index (RI) of polymers is another
parameter that influences the gloss of coatings [26,27].When measured,
ALK 9 showed a higher RI value (1.494) as compared to ALK 1
(1.481). This observation also supports the higher gloss of the ALK
9 film.
3.6. Chemical resistance and durability
Table 4 illustrates the chemical resistance properties of clear
films. Solvent and acid resistance of all the filmswas good.However,
the alkali resistance of ALK 1 and ALK 2 was inferior as compared
to the rest of the films.
The gloss values of coating films are given in Table 4. Clear differences
were observed in the tested panels. Coatings based on
increased amount of DPE content not only gave the initial higher
gloss but also exhibited best retention values when exposed in
QUVB (max = 313 nm) chamber for 300 and 500 h, respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เหตุผลสำหรับความเงาวาวสูงของฟิล์มของ ALK 9 ซึ่งสอดคล้องกับ
glossometer ค่า กล่าวถึงในตาราง 4 เพิ่มราบรื่น
จะไหลดีกว่าและระดับเกิดจากเจือจางล่าง
ความหนืดของโพลิเมอร์เพิ่ม DPE เนื้อหา (Fig. 1) และ
ยัง ควบคุมปรากฏการณ์แห้งเริ่มเป็นสังเกตจาก
ศึกษา DSC (Fig. 6) ดรรชนีหักเห (RI) ของโพลิเมอร์อยู่
พารามิเตอร์ที่มีผลต่อเงาของไม้แปรรูป [26,27]เมื่อวัด,
ALK 9 พบค่าสูงกว่า RI (1.494) เมื่อเทียบกับ ALK 1
(1.481) สังเกตนี้ยังสนับสนุนความเงาวาวสูงของ ALK ใน
ฟิล์ม 9.
3.6 สารเคมีและอายุการใช้งาน
4 ตารางแสดงคุณสมบัติต้านทานสารเคมีของเคลียร์
ฟิล์ม ต้านทานเป็นตัวทำละลาย และกรดของ filmswas ทั้งหมดดีอย่างไรก็ตาม,
ทนด่างของ ALK 1 และ ALK 2 มีน้อยเป็นเปรียบเทียบ
ของฟิล์ม
ค่าฟิล์มเคลือบเงาแสดงไว้ในตาราง 4 ล้างความแตกต่าง
สุภัคแผ่นทดสอบ ไม้แปรรูปตาม
DPE เนื้อหาจำนวนเพิ่มขึ้นไม่เพียงแต่ให้เริ่มต้นสูงกว่า
มันวาว แต่ยัง จัดแสดงค่ารักษาดีเมื่อสัมผัสใน
QUVB (สูงสุด = 313 nm) chamber 300 และ 500 h ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เหตุผลที่มันวาวสูงของภาพยนตร์ของ ALK 9 ซึ่งอยู่ในข้อตกลงที่มี
ค่า glossometer กล่าวในตารางที่ 4 การเพิ่มขึ้นของความเรียบ
เกิดจากการไหลเวียนที่ดีขึ้นและการปรับระดับที่เกิดขึ้นจากการลดสัดส่วนที่ต่ำกว่า
ความหนืดของพอลิเมอที่มีเนื้อหา DPE เพิ่มขึ้น (รูปที่ 1) และ
ยังมีปรากฏการณ์การอบแห้งควบคุมเริ่มต้นที่สังเกตได้จาก
การศึกษา DSC (รูปที่ 6). ดัชนีหักเห (RI) ของโพลิเมอร์เป็นอีกหนึ่ง
ตัวแปรที่มีผลต่อความมันวาวของการเคลือบ [26,27] เมื่อระบุวัด
ALK 9 แสดงให้เห็นว่าค่า RI สูง (1.494) เมื่อเทียบกับ ALK 1
(1.481) ข้อสังเกตนี้ยังสนับสนุนการปกลอสที่สูงขึ้นของ ALK
9 ภาพยนตร์
3.6 ทนต่อสารเคมีและความทนทาน
ตารางที่ 4 แสดงให้เห็นถึงคุณสมบัติทนต่อสารเคมีของชัดเจน
ภาพยนตร์ ความต้านทานตัวทำละลายและกรดของ filmswas ทั้งหมดดี แต่,
ความต้านทานด่างของ ALK ที่ 1 และ 2 เป็น ALK ด้อยกว่าเมื่อเทียบ
กับส่วนที่เหลือของภาพยนตร์
ค่าเงาของฟิล์มเคลือบจะได้รับในตารางที่ 4 ความแตกต่างที่ชัดเจน
ได้รับการตั้งข้อสังเกตใน แผงทดสอบ เคลือบขึ้นอยู่กับ
จำนวนที่เพิ่มขึ้นของเนื้อหา DPE ไม่เพียง แต่ให้เริ่มต้นที่สูงขึ้น
เงา แต่ยังแสดงค่าการเก็บรักษาที่ดีที่สุดเมื่อสัมผัสใน
QUVB (? สูงสุด = 313 นาโนเมตร) ห้อง 300 และ 500 ชั่วโมงตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เหตุผลสำหรับสูงเงาของภาพยนตร์ของ ALK 9 ซึ่งอยู่ในข้อตกลงกับ
glossometer ค่าตารางในข้อ 4 เพิ่มความเรียบเนียน
เนื่องจากการปรับระดับขึ้นและที่เกิดจากการลดความหนืดของพอลิเมอร์เพิ่มขึ้น
dpe เนื้อหา ( รูปที่ 1 ) และยังควบคุมเริ่มต้นการอบแห้ง

เท่าที่สังเกตปรากฏการณ์จาก DSC ศึกษา ( ภาพที่ 6 )ดรรชนีหักเห ( RI ) ของพอลิเมอร์เป็นอีกตัวแปรที่มีอิทธิพลต่อ
มันเงาเคลือบ [ 26,27 ] เมื่อวัด
ALK 9 มีค่ารีสูงกว่า ( 1.494 ) เมื่อเทียบกับผู้ผลิต 1
( 1.481 ) การสังเกตนี้ยังสนับสนุนสูงกลอสของ ALK
9 ภาพยนตร์ .
3.6 ความต้านทานต่อสารเคมีและความทนทาน
ตารางที่ 4 แสดงความต้านทานต่อสารเคมี คุณสมบัติของฟิล์มใส

ความต้านทานต่อตัวทำละลายและกรดของกล่าวคือทั้งหมดดี แต่ความทนด่าง
1 และ 2 ของผู้ผลิตผู้ผลิตที่ด้อยกว่าเมื่อเทียบกับส่วนที่เหลือของภาพยนตร์
.
เงาค่าฟิล์มเคลือบจะได้รับในตารางที่ 4 ความแตกต่างที่ชัดเจน
พบในการทดสอบแผง ไม้แปรรูปตาม
ยอดเงินเพิ่มขึ้นของ dpe เนื้อหาไม่เพียง แต่ให้เริ่มต้นสูงกว่า
เงา แต่ยังมีค่าความคงทนดีที่สุดเมื่อสัมผัส
quvb (  max = 313 nm ) ห้อง 300 และ 500 ชั่วโมง ตามลำดับ